プラズマ化学気相堆積法 (プラズマCVD法) による高品質薄膜の作成技術 入門

産業界でプラズマCVDによる成膜に従事する方々は、膜質をある方向に変えたいときに、装置のパラメータのどれを操作するとよいのかを一番知りたいはずです。 　しかし、プラズマCVDは電気工学・放電工学・化学工学・流体工学等が複雑に絡み合ったプロセスです。これらを全部習得すれば完璧ですが、産業界の人にそんな暇は無いと思います。 　本講座では、プラズマCVDに携わる方々が、日々の業務の中で活かすことができ、「こうしたらいいよ」と、自分のアイデアも出せるようなエッセンスを身につけて頂くことを趣旨としました。

1. なぜプラズマCVDを使うのか?
   1. 液相法と気相法
   2. PVDとCVD
   3. プラズマと熱・光
2. プラズマCVDの概要
   1. 放電現象
   2. 気相反応
   3. 表面反応
3. 放電とプラズマ
   1. 電子・イオンはどのように動く?
   2. 電界分布はどんな形?
   3. 電子密度は何で決まる?
   4. 電子温度は何で決まる?
4. 気相反応1 (一次反応過程)
   1. 特定の機能基を薄膜に付与できるか?
   2. 一次生成物はどこで生成?
   3. 入れた原料と違うガスのプラズマになる?
5. 気相反応2 (二次反応過程)
   1. 基板に到達するまでに何回衝突?
   2. 一次生成物が衝突する相手は何?
   3. 気相化学種密度を決めているのは何?
   4. 一次反応は膜質に関係ない?
   5. 二次反応の方が重要?
   6. ダストを抑制するには?
6. 輸送過程
   1. 基板に向かう原動力=拡散
   2. 膜質制御に効くドリフト
   3. 空間分布に効く移流
7. 表面反応
   1. 一概に付着と言うなかれ! (物理吸着と化学吸着)
   2. 表面上を動く?
   3. 付着した後の反応もある?
   4. 基板温度はなぜ膜質制御に効く?
   5. 段差被覆性は何で決まる?

• 質疑応答・名刺交換