本セミナーでは、ウエットエッチング技術を、固-液系不均一反応の基礎から解説いたします。
日時
- 2013年7月29日 13時00分〜 2013年7月29日 16時30分
開催予定
プログラム
近年の益々の回路微細化に対する要求に対応すべく、ニューエッチング液等の工夫がされてきている。それに加え、近隣国の勢力増強に立ち向かうためには、ここで基本に立ち返り、現象を理解した上での研究開発が重要と考える。 本講では、固-液系不均一反応の基礎を解説し、これまで、大学・高専で培ったウェットエッチングに対する研究成果も解説する。
- 銅回路の微細化
- 固-液系不均一反応に関する移動現象論の基礎
- ウェットエッチングとは?
- 速度支配因子の同定とメカニズム
- 塩化第二銅溶液による銅のエッチング
- 塩化第二鉄溶液による銅のエッチング
- アルカリエッチング液による銅のエッチング
- 液側物質移動律速下の回路形状予測
- エッチングに対するエッチング液への界面活性剤添加
- エッチングに対する銅箔への表面処理効果
- セミアディティブ法におけるシード層除去エッチング
- 界面化学反応律速下の溶解反応のメリット・デメリット
- その他
- まとめ
- 質疑応答・名刺交換
会場
受講料
- 1名様: 38,000円(税別) / 41,800円(税込)
- 複数名: 31,000円(税別) / 34,100円(税込)
複数名同時受講の割引特典について
- 2名で参加の場合、1名につき 7,350円割引
- 3名で参加の場合、1名につき 10,500円割引 (同一法人に限ります)