グラフェン技術の最先端

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プログラム

グラフェンの量産技術、グラフェン膜、使いやすさ・品質向上、コスト・安全性などの課題と利用拡大に向けた材料特性向上、フレキシブルエレクトロニクス、オプト分野、バッテリー材料等における用途展開について、技術の現状と今後の開発の方向性について全体を把握できる機会とする。

  1. グラフェンの特性基礎
    1. 特性のまとめ
    2. 電気的特性・光学的特性の基礎
    3. 機械的特性
    4. 熱的特性
  2. グラフェン研究開発の歴史
  3. グラフェンの形成法
    1. 剥離などによるグラフェンの形成
    2. 熱CVDによるグラフェンの形成
    3. 酸化グラフェンの還元によるグラフェンの形成
    4. その他 (固体原料を用いたグラフェンの形成、など)
  4. グラフェンの量産に向けた試みと現状の課題
  5. プラズマを利用したグラフェンの低温CVD合成
    1. プラズマCVDによるナノ炭素材料合成
    2. 表面波励起マイクロ波プラズマCVD
    3. 表面波励起マイクロ波プラズマCVDによるグラフェンの合成
    4. プラズマCVDで合成したグラフェンによる透明導電膜
    5. プラズマCVDによるロールTOロール連続合成
  6. グラフェンの用途開発の現状
    1. 透明導電膜用途
    2. その他の用途 (バッテリー材料、等)
  7. 海外のグラフェン研究開発動向

会場

品川区立総合区民会館 きゅりあん
140-0011 東京都 品川区 東大井5丁目18-1
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受講料

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