本セミナーでは、熱、光や酸素、微生物による高分子材料の劣化機構から、防止・抑制するための各種酸化防止剤、光安定剤、抗菌剤の配合技術、最近のトピックスまで詳解いたします。
日時
- 2013年7月10日 12時30分〜 2013年7月10日 16時30分
開催予定
プログラム
高分子材料は、高分子材料の成形加工時や使用時の熱、光や酸素により劣化する。これらの劣化を防止・抑制、すなわち高分子材料を安定化する目的で各種酸化防止剤、光安定剤などが高分子材料に処方されており、プラスチック製品の実用化に大きな役割を果たしてきた。 本講では、ポリオレフィンやエラストマーを中心とした高分子材料に対して熱、光や酸素による劣化とその現象、劣化機構、安定化の考え方、添加剤の配合技術および最近のトピックスについて概説する。
- 高分子材料の劣化因子と劣化機構
- 劣化因子
- 熱、光、NOxガス、機械的エネルギーによる劣化など
- 劣化現象
- 物性、変色、発臭など
- 劣化機構
- 酸素存在下の自動酸化機構
- 無酸素下の劣化機構
- 劣化因子
- 高分子添加剤の機能と特徴
- 加工安定剤
- 酸化防止剤
- 光安定剤
- 評価試験方法
- 安定剤の評価手順
- 加工安定性評価
- 熱酸化劣化防止性能
- NOx試験
- 安定剤の作用機構からの安定剤処方
- 無酸素下の熱劣化
- 成形加工性の向上
- 着色防止
- 相乗作用による性能向上
- 主要な安定剤とその特徴
- フェノール系酸化防止剤
- イオウ系酸化防止剤
- リン系酸化防止剤
- HALS
- 質疑応答・名刺交換・個別相談
会場
受講料
- 1名様: 47,600円(税別) / 52,360円(税込)
割引特典について
- R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
- 1名でお申込みいただいた場合、1名につき47,250円 (税込)
- 2名同時にお申し込みいただいた場合、2名で49,980円 (税込)
- 案内登録をされない方は、1名につき49,980円 (税込)