日時
- 2013年4月23日 10時30分〜 2013年4月23日 16時00分
プログラム
第1部 ナノインプリント技術の最新動向と展望
(2013年4月23日 10:30〜12:00)
早稲田大学 ナノ理工学研究機構研究院 准教授 水野 潤 氏
ナノインプリント技術は,プリンストン大学 (現在) のChou教授が1995年に提案した技術で1μm以下のパターン構造を安価に一括加工できる手法である.ナノインプリントは,熱インプリント,光 (UV) インプリント,ソフト (マイクロコンタクト) リソグラフィの3つに分類できる.ここでは最近の企業を中心とした各要素技術の開発情報を紹介し,今後のナノインプリントの展望について紹介していく.
- はじめに
- ナノインプリントの要素技術の動向
- ナノインプリント用樹脂
- ナノインプリント用モールド
- ナノインプリント用転写装置
- ナノインプリントの応用例
- ナノインプリントへの取り組み
- 今後の展望
- 質疑応答・名刺交換
第2部 多様化するナノインプリント用モールドと今後の技術展望
(2013年4月23日 12:45〜14:15)
NTTアドバンステクノロジ (株) 先端プロダクツ事業本部 ナノテクビジネスユニット 高橋 千春 氏
ナノインプリント技術はこの10年ほどで大きく進展し、基礎・基盤研究から応用研究に急速に拡大しつつある。
応用分野によっては量産ラインへの導入も検討が始まっている。モールドの仕様も、ナノインプリント技術の基本となる高精度モールドだけでなく、幅広い応用に対応して、基板材料、パタンサイズ、パタン領域などが異なるモールドが求められている。本講演ではこのような多種多様なモールドについて紹介するとともに、今後予想される課題も踏まえて技術展望を行う。
- はじめに
- ナノインプリント技術の進展
- ナノインプリントモールドへの要求
- 作製技術
- 微細加工プロセス
- リソグラフィー技術
- ドライエッチング技術
- ウエットエッチング技術
- Ni電鋳技術
- その他の技術
- 各種モールド
- Siおよび石英モールド
- SiNおよびSiCモールド
- Niモールド
- 3次元形状モールド
- 大面積モールド
- その他のモールド
- 今後の展望とまとめ
- 課題と今後の展望
- まとめ
- 質疑応答・名刺交換
第3部 ナノインプリント装置の開発動向と応用例
(2013年4月23日 14:30〜16:00)
(株) 日立製作所 日立研究所 主管研究員 工学博士 宮内 昭浩 氏
ナノインプリントは液晶TV向けの反射防止膜や電子ペーパーの導光板への量産適用が開始され,研究フェーズから量産フェーズへ移行している。装置も初期の平行平板タイプからロール加圧式の高スループット機へ移行している。 本講座では,ロール加圧式式の装置,プロセスを中心に述べる。また,成型精度を決める樹脂流動に関して最新の研究状況を述べる。
- イントロダクション
- ナノインプリント装置
- 平行平板型装置
- ロール加圧型装置
- プロセス制御
- 樹脂流動
- 剥離制御
- 応用デバイス
- まとめ
- 質疑応答・名刺交換
会場
受講料
- 1名様: 42,667円(税別) / 46,933円(税込)
- 複数名: 35,667円(税別) / 39,233円(税込)
複数名同時受講の割引特典について
- 2名で参加の場合、1名につき 7,350円割引
- 3名で参加の場合、1名につき 10,500円割引 (同一法人に限ります)