本セミナーでは、電解水の生成および基本特性から精密洗浄,表面処理への応用まで最新情報をふまえて解説いたします。
日時
- 2013年4月25日 12時30分〜 2013年4月25日 16時30分
開催予定
プログラム
半導体デバイスをはじめとする精密機器の表面洗浄および処理に化学薬液が多量に使用されており,環境,人体に悪影響を与えると同様に,製造コスト高ももたらしている。 電解水は化学薬液と異なり,人体および環境に悪影響を与えず,使用後の廃棄処理を必要としないため,環境負荷軽減および製造コスト削減に期待できる。 電解還元水はアルカリ性で,溶存水素濃度が高く,水素ナノバブルも存在しているため,精密機器表面の脱脂洗浄,パーティクル除去洗浄などに有効である。電解酸化水は酸性で,溶存酸素濃度および溶存塩素濃度が高く,無酸素銅材,純ニッケル材などの表面に対するエッチング作用が化学薬液より強い。金属イオン残渣および酸化皮膜の除去に応用できる。
- 電解水の生成およびその特性
- 電解水の生成装置 (原理,構造など)
- 生成直後電解水の特性
- NaCl電解還元水および電解酸化水
- Na2SO4電解還元水および電解酸化水
- 電解水の経時変化
- 電解還元水を用いた精密洗浄
- 研磨工程後のシリコンウエハの表面洗浄
- 光学ガラス表面の洗浄
- バフ研磨後の精密機器用ギアの研磨材微粒子の除去洗浄
- 電解酸化水を用いた金属表面のエッチング加工
- 無酸素銅材
- エポキシ基板上の銅電解めっき,無電解めっき
- 純ニッケル材およびニッケルと鉄の合金
- 表面洗浄およびエッチング実験 (講演会の合間で行いたい)
- 電解還元水による実洗浄 (腕時計の金属ベルト,可能ならば会場の皆様のものを洗浄したい)
- 加熱処理後の無酸素銅材などの表面酸化皮膜除去
- 質疑応答・名刺交換
会場
受講料
- 1名様: 47,600円(税別) / 52,360円(税込)
割引特典について
- R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
- 1名でお申込みいただいた場合、1名につき47,250円 (税込)
- 2名同時にお申し込みいただいた場合、2名で49,980円 (税込)
- 案内登録をされない方は、1名につき49,980円 (税込)