半導体ウェット洗浄技術の基礎と最先端技術

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本セミナーでは、半導体のウェット洗浄について基礎から解説し、半導体の洗浄だけではなく乾燥にも焦点を当て、基礎から最新にわたる技術トレンドを紹介いたします。

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プログラム

半導体製造において、品質/歩留まりを向上するために洗浄は欠かすことができない工程です。その洗浄技術の基礎から先端半導体向け最新技術までを本セミナーで解説します。まずは半導体洗浄の装置種類や薬液種類に関する基礎的な内容を詳しく説明します。これにより、洗浄対象物や洗浄原理が理解できます。その後、次世代半導体の構造や材料の変化に伴う洗浄課題に触れていきます。最先端の半導体の洗浄が従来の半導体洗浄に比べ難易度が高い理由について解説します。また洗浄後は、濡れたウエハ表面をデバイスに悪影響なく乾かす必要があるため、乾燥も重要なプロセスです。  本セミナーでは、「洗浄」だけでなく「乾燥」にも焦点を当て、基礎から最新にわたる技術トレンドを紹介します。

  1. 半導体ウェット洗浄の必要性
    1. 半導体製造フローと洗浄の位置づけ
    2. 洗浄装置の役割
    3. 洗浄の除去対象
  2. 半導体ウェット洗浄の方法・原理
    1. 洗浄装置の種類
    2. 異物の除去
      1. パーティクル除去の種類
      2. 洗浄薬液の種類
      3. 洗浄原理
    3. 異物の付着抑制
  3. 洗浄の技術トレンド
    1. 洗浄と半導体の歴史
    2. 従来の洗浄技術
      1. スプレー洗浄
  4. 乾燥の技術トレンド
    1. 乾燥と半導体の歴史
    2. 従来の乾燥技術
      1. IPA乾燥
      2. 表面改質
  5. 次世代半導体の洗浄課題
    1. 半導体デバイスのトレンド
    2. 洗浄の技術的課題
      1. ロジックデバイス
      2. メモリデバイス
      3. 貼り合わせウェーハ
    3. 洗浄装置に求められる機能
  6. 先端洗浄・乾燥技術
    1. 最新の洗浄技術
    2. 最新の乾燥技術
    3. シミュレーション技術
  7. まとめ
    • 質疑応答

受講料

  • 1名様: 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
  • 複数名: 40,000円(税別) / 44,000円(税込)

複数名同時受講割引について

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 40,000円(税別) / 44,000円(税込) で受講いただけます。
  • 5名様以降は、1名あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 80,000円(税別) / 88,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 120,000円(税別) / 132,000円(税込)
    • 4名様でお申し込みの場合 : 4名で 160,000円(税別) / 176,000円(税込)
    • 5名様でお申し込みの場合 : 5名で 190,000円(税別) / 209,000円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 請求書は、代表者にご送付いたします。
  • 他の割引は併用できません。

アカデミック割引

  • 1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)

日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。

  • 学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院、短期大学、附属病院、高等専門学校および各種学校の教員、生徒
  • 病院などの医療機関・医療関連機関に勤務する医療従事者
  • 文部科学省、経済産業省が設置した独立行政法人に勤務する研究者。理化学研究所、産業技術総合研究所など
  • 公設試験研究機関。地方公共団体に置かれる試験所、研究センター、技術センターなどの機関で、試験研究および企業支援に関する業務に従事する方
  • 支払名義が企業の場合は対象外とさせていただきます。
  • 企業に属し、大学、公的機関に派遣または出向されている方は対象外とさせていただきます。

ライブ配信対応セミナー / アーカイブ配信対応セミナー

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  • 視聴期間は2027年1月6日〜16日を予定しております。
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