本セミナーでは、半導体製造における枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れについて可視化観察例等を流れの特徴と問題点を考察を踏まえながら解説いたします。
日時
- 2026年10月27日 13時00分〜 2026年11月6日 16時30分
開催予定
プログラム
半導体製造において、各種汚染は歩留低下を引き起こす。 本セミナーでは、序論として汚染が半導体デバイスにおよぼす影響を示します。それを踏まえて、半導体洗浄に関して説明します。従来の洗浄から最近の洗浄、目的別洗浄について詳細を説明します。洗浄以外の汚染制御技術に関して紹介します。最後に次世代の汚染制御の問題点と洗浄乾燥技術について解説します。洗浄技術は半導体デバイスの品質の向上のために必要である。洗浄の意義を一緒に考えましょう。
- 序論 – 汚染が半導体デバイスに与える影響
- クリーン化の重要性
- 金属汚染 (Fe, Cu等) およびナノパーティクル
- 分子汚染
- NH3
- アミン
- 有機物
- 酸性成分
- 各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術
- 洗浄技術
- RCA洗浄
- 各種洗浄液と洗浄メカニズム
- 薬液系洗浄 vs. 純水系洗浄
- 洗浄プロセスの動向
- 乾燥技術
- 最先端の洗浄技術とその問題点
- その他の汚染制御技術
- 工場設計
- ウェーハ保管、移送方法
- 次世代の汚染制御の問題点と今後の課題
- 新洗浄乾燥技術
- SCCO2洗浄乾燥
- PK剤乾燥
- 次世代の洗浄、汚染制御の課題と提言
- 新洗浄乾燥技術
受講料
- 1名様: 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 複数名: 22,500円(税別) / 24,750円(税込)
案内割引・複数名同時申込割引について
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- R&D支援センターからの案内を希望する方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 40,000円(税別) / 44,000円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
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- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 99,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 148,500円(税込)
アーカイブ配信セミナー
- 当日のセミナーを、後日にお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
- 配信開始となりましたら、改めてメールでご案内いたします。
- 視聴サイトにログインしていただき、ご視聴いただきます。
- 視聴期間は2026年10月27日〜11月6日を予定しております。
ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。