フォトレジストの材料設計と先端半導体プロセス技術

本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、EUVリソグラフィーの基礎からEUVフォトプロセスの最適化と評価、最新のメタルレジストについて解説いたします。

日時

2026年9月30日 10時00分〜 2026年9月30日 16時40分

中止

プログラム

第1部ポリグリセリン系アクリレートの特徴とレジストへの応用

(2026年9月30日 10:00〜11:00)

　従来の多官能アクリレートモノマーとポリグリセリン系アクリレートモノマーの違いを解説します。さらに、レジストでの応用にむけたアプリケーションを紹介します。　多官能アクリレートモノマーの1つであるポリグリセリン系アクリレートは、ポリグリセリン由来の柔軟性を併せ持つユニークな多官能アクリレートモノマーです。本セミナーではポリグリセリン系アクリレートの開発コンセプトとその材料特性を知ることができます。

多官能アクリレートモノマーについて
1. 概要
2. ポリグリセリン系アクリレートの開発コンセプト
ポリグリセリン系アクリレートの機能
1. 速硬化性
2. 柔軟性
3. 硬度と柔軟性の両立
4. 耐溶剤性
ポリグリセリン系アクリレートのレジストへの応用例
1. レジスト樹脂としての機能
ポリグリセリン系アクリレートの製品紹介
1. SYシンテック SAシリーズ

質疑応答

第2部フォトレジスト材料の原理と分子設計指針、その開発例

(2026年9月30日 11:10〜12:30)

　感光性フィルム成型材料は、末端および側鎖に感光性基を有する直鎖状オリゴマーやポリマーであった。感光性フィルムは様々な用途への利用に伴い、それらの要求特性を満たすためには、従来の感光性材料では対応できないことが指摘され始めている。環状オリゴマーや多分岐ポリマーを基盤とした感光性材料は、直鎖状化合物を基盤とした感光性材料と比較すると、高感度化を示す。　本講座では、環状オリゴマーや多分岐ポリマーを基盤とした感光性材料やレジスト材料の合成法から、それらの物理的と構成および、露光高感度化について説明する。

はじめに
1. UV硬化性樹脂材料について
2. レジスト材料について
環状オリゴマーを基盤とした感光性材料
1. 環状オリゴマーを基盤としたUV硬化性樹脂材料
2. 環状オリゴマーを基盤とした電子線、極端紫外線レジスト材料
ハイパーブランチポリマーを基盤とした感光性材料
1. ハイパーブランチポリマーを基盤としたUV硬化性樹脂材料
2. ハイパーブランチポリマーを基盤とした電子線、極端紫外線レジスト材

質疑応答

第3部デンドリマー骨格を用いたフォトポリマー材料の合成と特性評価

(2026年9月30日 13:20〜14:40)

はじめに
クリックケミストリーを用いたデンドリマーの大量合成と応用展開について
1. デンドリティック高分子の特徴と有用性
2. クリックケミストリーを利用したデンドリマーの大量合成
3. デンドリマー大量合成の実際
4. デンドリマー末端の化学修飾による機能性材料の創製

質疑応答

第4部先端半導体プロセスで求められるレジスト材料・技術

(2026年9月30日 14:50〜16:40)

　微細加工を支えるリソグラフィ技術ではレジストの進展が必須となっている。　本講演では、最新のロードマップを紹介した後、レジストの基礎と設計指針、要求特性、課題と対策、最新技術動向について解説する。注目されているEUVメタルレジスト、EUVメタルドライレジストプロセス、PFASフリーレジストについても解説する。おわりにレジストの今後の技術展望、市場動向についてまとめる。

ロードマップ
1. デバイスのロードマップ
2. リソグラフィのロードマップ
レジストの基礎・設計指針と最新技術
1. 溶解阻害型レジスト
  1. g線レジスト
  2. i線レジスト
2. 化学増幅型レジスト
  1. KrFレジスト
  2. ArFレジスト
  3. 化学増幅型レジストの安定化技術
3. ArF液浸レジスト/トップコート
  1. ArF液浸リソグラフィの特徴
  2. ArF液浸レジスト/トップコートの要求特性
  3. ArF液浸レジスト/トップコートの設計指針
4. EUVレジスト
  1. EUVレジストの特徴
  2. EUVレジストの要求特性
  3. EUVレジストの設計指針
    1. EUVレジスト用ポリマー
    2. EUVレジスト用酸発生剤
    3. 光分解性クエンチャー
  4. EUVレジストの課題と対策
    1. 感度/解像度/ラフネスのトレードオフ
    2. ランダム欠陥 (Stochastic Effects)
  5. EUVレジストの動向
    1. ネガレジストプロセス
    2. ポリマーバウンド酸発生剤を用いる化学増幅型レジスト
  6. EUVメタルレジスト
    1. EUVメタルレジストの特徴
    2. EUVメタルレジストの性能
  7. EUVメタルドライレジストプロセス
5. 新エッチング技術対応レジスト
  1. クライオエッチング用レジスト
6. PFASフリーレジスト
レジストの技術展望、市場動向

質疑応答

受講料

1名様: 55,000円(税別) / 60,500円(税込)
複数名: 50,000円(税別) / 55,000円(税込)

複数名同時受講割引について

2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 50,000円(税別) / 55,000円(税込) で受講いただけます。
5名様以降は、1名あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込) で受講いただけます。
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 55,000円(税別) / 60,500円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)
- 4名様でお申し込みの場合 : 4名で 200,000円(税別) / 220,000円(税込)
- 5名様でお申し込みの場合 : 5名で 230,000円(税別) / 253,000円(税込)

同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
請求書は、代表者にご送付いたします。
他の割引は併用できません。

アカデミック割引

1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)

日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。

学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院、短期大学、附属病院、高等専門学校および各種学校の教員、生徒
病院などの医療機関・医療関連機関に勤務する医療従事者
文部科学省、経済産業省が設置した独立行政法人に勤務する研究者。理化学研究所、産業技術総合研究所など
公設試験研究機関。地方公共団体に置かれる試験所、研究センター、技術センターなどの機関で、試験研究および企業支援に関する業務に従事する方

支払名義が企業の場合は対象外とさせていただきます。
企業に属し、大学、公的機関に派遣または出向されている方は対象外とさせていただきます。

ライブ配信セミナーについて

本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
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