ポリマー光導波路へ向けた感光性樹脂の材料設計と微細加工技術

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本セミナーでは、シリコンフォトニクスで求められるポリマー光導波路の要求特性 (低損失、耐熱黄変性、機械特性など) について詳解いたします。

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プリント配線板の作製プロセスが流用できるポリマー光導波路の光インターコネクト及び光回路部品への応用は、古くから検討が行われてきている。しかし、従来の電気基板、配線におけるプロセス及び材料技術の向上により、これまで本格的な光化の市場は開かれてこなかった。このような背景から、これまで多くの国内ポリマー光導波路メーカーが開発検討を止めていった経緯がある。しかし近年、コパッケージオプティクス及びシリコンフォトニクスといった要素技術開発の盛り上がりとともに、ポリマー光導波路への注目が再度集まりつつあるように感じられる。  そこで本講演では、ポリマー光導波路に要求される各種特性に対して試みられてきた材料設計及びその微細加工方法について、国内企業における従来材料を例に挙げつつ紹介する。

  1. 光インターコネクトにおける光導波路の役割
  2. 光導波路用感光性樹脂の材料設計
    1. 光導波路用材料に求められる物性と課題因子
    2. 光学特性の付与
      1. 低損失
        • 吸収損失
        • 散乱損失
      2. 光閉じ込め性
    3. 耐熱特性の付与
      1. 耐熱黄変
      2. 黄変の抑制策
    4. 機械特性の付与
    5. 微細加工性の付与
  3. ポリマー光導波路の作製方法
    1. フォトリソグラフィー法
    2. フォトブリーチング法
    3. フォトアドレス法
    4. RIE法
  4. 国内各社における光導波路材料の設計例
  5. 材料設計上の留意点

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