コロイダルシリカの分散・凝集制御と表面化学の最前線

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本セミナーでは、コロイド界面科学の基礎理論 (電気二重層、ζ電位、DLVO理論、多段pKaモデル) を体系的に整理し、実務で直面する分散不良・ゲル化・増粘などのトラブルを科学的に読み解く視点を提供いたします。
さらに、測定データの正しい解釈法から処方設計への落とし込みまで、実践的な活用テクニックを具体例とともに解説いたします。

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プログラム

コロイダルシリカは、電子材料、CMPスラリー、コーティング、触媒担体など幅広い分野で不可欠な材料です。しかしその分散安定性や凝集挙動は、粒子径、シラノール基密度、pH、イオン強度など複数の因子に支配されており、「経験則」だけでは制御が難しい場面も少なくありません。  本講演では、コロイド界面科学の基礎理論 (電気二重層、ζ電位、DLVO理論、多段pKaモデル) を体系的に整理し、実務で直面する分散不良・ゲル化・増粘などのトラブルを科学的に読み解く視点を提供します。さらに、測定データの正しい解釈法から処方設計への落とし込みまで、実践的な活用テクニックを具体例とともに解説します。  「理解する」から「設計できる」へ。コロイダルシリカを使いこなすための知識と判断力を養うことを目的とします。

  1. シリカの基礎と分類
    1. 結晶性シリカと非晶質シリカの構造差
    2. 合成シリカの種類と製造プロセス
    3. コロイド材料としてのシリカの特性
  2. コロイダルシリカの構造と界面特性
    1. コロイド粒子の定義と安定化条件
    2. 一次粒子径・二次構造と比表面積
    3. 表面シラノール基と表面電荷発現
    4. 粒子間相互作用
      • DLVO
      • 非DLVO
    5. 分散と凝集の転移メカニズム
    6. 安全性および規制動向
  3. 原料と前駆体化学
    1. ケイ酸ソーダ系原料
    2. アルコキシシラン (TEOS等) 系原料
    3. 四塩化ケイ素系
    4. 不純物管理と品質設計
  4. コロイダルシリカの調製法と粒子制御
    1. イオン交換法
    2. ストーバー法
    3. 四塩化ケイ素加水分解法
    4. 解膠法
    5. 中和法
    6. 電気透析法
    7. 表面処理型・改質型の製造技術
  5. 評価技術と品質管理
    1. 粒子径測定
      • DLS
      • TEM
    2. ζ電位・IEP評価
    3. 比表面積・細孔特性
    4. シラノール基定量法
    5. 金属不純物・イオン管理
    6. レオロジー評価
  6. 用途展開と市場動向
    1. 精密鋳造用バインダー
    2. CMP・電子材料用途
    3. 塗料・接着・コーティング
    4. 製紙・無機繊維分野
    5. 金属表面処理
    6. 化粧品用途
    7. 市場規模と成長分野
  7. 最新トピックスと将来展望
    1. 高純度・超低金属化技術
    2. 高固形分・低粘度化技術
    3. 表面改質・有機無機ハイブリッド
    4. 環境対応・サステナビリティ
    5. 次世代電子材料への展開
  8. まとめ
  9. 質疑応答

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