プラズマCVDによる高品質成膜プロセス

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本セミナーでは、プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズムについて基礎から解説いたします。

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プログラム

産業界で高品質なプラズマCVD膜の得るための仕事に従事する方々は、プラズマ源の選定から装置パラメータの設定に至る意思決定をする立場にあると思います。  この意思決定を適切に行うためには、各種のプラズマ源の特徴を把握しておく必要があります。また、そのプラズマ源を用いたリアクター内で起こる物理・化学的現象が、各種パラメータを変えるとどうなるのか、更にそれが膜質にどのように反映されるのかを把握しておく必要があります。  本講座では、プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズムを理解して頂くことを趣旨としました。

  1. なぜプラズマCVD?
    1. ドライだから
    2. 低温だから
    3. 段差被覆性に優れるから
    4. 機能性官能基を含有できるから
    5. 非平衡だから
  2. プラズマと気体放電の基礎
    1. プラズマの温度
    2. 壁との境界「シース」
    3. 放電によるプラズマ生成の基礎
  3. 各種プラズマ生成方式 (プラズマ源)
    1. 直流放電プラズマ (応用範囲は狭いが、まずはこれで基本原理を理解)
    2. 高周波放電プラズマ
    3. 高密度プラズマ源は何故高密度か?
  4. プラズマ化学工学
    1. 制御パラメータと内部パラメータ
    2. プラズマ中の電子のエネルギー分布
    3. 電子衝突による一次反応
    4. 二次反応とその影響
    5. 気相から表面までの輸送過程
  5. 薄膜堆積プロセスの理解と応用技術
    1. 表面プロセスの概要
    2. 膜構造形成過程の基本的描像
    3. 膜の構造と電子材料としての物性
    4. 膜構造形成過程と膜物性
    5. 成膜速度と基板温度
    6. イオン衝撃の効能
    7. 機能基の含有
    • 質疑応答

受講料

  • 1名様: 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
  • 複数名: 45,000円(税別) / 49,500円(税込)

複数名同時受講割引について

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 45,000円(税別) / 49,500円(税込) で受講いただけます。
  • 5名様以降は、1名あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 99,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 148,500円(税込)
    • 4名様でお申し込みの場合 : 4名で 180,000円(税別) / 198,000円(税込)
    • 5名様でお申し込みの場合 : 5名で 210,000円(税別) / 231,000円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 請求書は、代表者にご送付いたします。
  • 他の割引は併用できません。

アカデミック割引

  • 1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)

日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。

  • 学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院、短期大学、附属病院、高等専門学校および各種学校の教員、生徒
  • 病院などの医療機関・医療関連機関に勤務する医療従事者
  • 文部科学省、経済産業省が設置した独立行政法人に勤務する研究者。理化学研究所、産業技術総合研究所など
  • 公設試験研究機関。地方公共団体に置かれる試験所、研究センター、技術センターなどの機関で、試験研究および企業支援に関する業務に従事する方
  • 支払名義が企業の場合は対象外とさせていただきます。
  • 企業に属し、大学、公的機関に派遣または出向されている方は対象外とさせていただきます。

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