EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術

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本セミナーでは、EUVレジストの概要とその評価方法に関する基礎知識、EUVリソグラフィーの基礎知識、EUVフォトプロセスの最適化方法、評価方法について解説いたします。
SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026 の聴講報告も行う予定となっております。

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情報システム社会の発展は目覚ましく、パーソナルコンピュータは今や一人一台を所有する。最近では、スマートフォンが手のひらコンピューティングを可能にするなど、私たちの生活を劇的に変えている。また 、取り扱うデータ量も増大しており、ビッグデータと呼ばれる単一のデータ集合内で数十テラバイトから数ペタバイトの範囲のデータをやり取りする時代が到来している。そこに、IoT (Internet of Things) やIoE (Internet of Everything) と呼ばれる、すべての「モノ」がインターネットにつながることで、自動認識や自動制御、遠隔計測などを行うことが発展してきている。  これらの発展はメモリやCPU (中央演算処理装置 ) 等の半導体電子デバイスの技術革新によって支えられており、この電子デバイスの技術 革新は 半導体微細加工技術の進展によるものである。現在は、EUVリソグラフィー技術により、20nmレベルの微細加工が可能となっており、本講座では、このEUVリソグラフィー技術の概要とプロセス評価技術について解説する。

  1. EUVLの概要
    1. EUVLの概要
    2. EUVL用レジスト
  2. アウトガス評価技術
    1. EUVLレジストのアウトガス評価方法
    2. EUVLレジストのアウトガス評価装置
  3. EUVレジストの評価技術
    1. EUV透過率測定
    2. ナノパーティクル添加レジストの高感度化
    3. 屈折率nk測定
    4. EUV2光束干渉露光
  4. EUVメタルレジストの評価技術
    1. メタルレジストの概要
    2. EUVメタルレジストのアウトガス分析
    3. EUVメタルレジストの問題点
  5. EUVフォトレジストと電子線レジストの感度
  6. 「SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026」聴講報告 (特にEUVに関しての最新技術)

受講料

複数名受講割引

アカデミー割引

教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。

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