本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、EUVリソグラフィーの基礎からEUVフォトプロセスの最適化と評価、最新のメタルレジストについて解説いたします。
日時
- 2026年3月9日 10時30分〜 2026年3月19日 16時30分
開催予定
プログラム
フォトレジスト材料は、化学増幅型システムを基盤として、露光システムの変遷と共に進化をしてきた。その進化の変遷について、高分子や低分子を用いたレジスト材料の開発について解説する。さらに、KrF、ArF、EB、およびEUVレジスト材料の合成例と分子設計指針について基礎から応用までを解説する。 また、レジスト材料の基礎的な評価方法を解説し、新規なレジスト材料の開発方法について解説しながら、最新のレジスト材料としてEUVレジスト材料の開発方法について解説する。
- レジスト材料
- 原理
- 合成例
- 最新の化学増幅型
- ポジ型レジスト材料
- 材料的な特性
- 主な応用・用途
- ネガ型レジスト材料
- 材料的な特性
- 主な応用・用途
- 高分子レジスト材料と低分子レジスト
- 材料的な特性
- 主な応用・用途
- レジスト材料の評価方法と開発方法の実例
- レジスト材料の評価項目、評価手法について
- レジスト材料の評価方法と開発例
- 最新型レジスト材料
- メタルレジスト
- EB、EUV用レジスト材料
- 良く出る質問、ケーススタディ、Q&A
- 例1 : レジスト組成物としての添加剤の使用目的とは?
- 例2 : レジスト材料の機械的特性の評価法とは?
- 例3 : アウトガスの発生原因とその測定方法とは?
- 例4 : 光源の照射量・時間・強さの調整法とは?
- 例5 : カリックスアレーンのレジスト材料への可能性は?
- 例6 : レジスト材料の耐久性、寿命予測法とは?
- 例7 : レジスト材料に求められる改善点、課題とは?
- 例8 : レジスト材料の保存管理のポイントは?
- 例9 : レジスト材料の安全性や規格規制の動きは?
- 例10 : レジスト材料の海外での研究実例は?
- 質疑応答
受講料
- 1名様: 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 複数名: 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
複数名同時受講割引について
- 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 45,000円(税別) / 49,500円(税込) で受講いただけます。
- 5名様以降は、1名あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込) で受講いただけます。
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 99,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 148,500円(税込)
- 4名様でお申し込みの場合 : 4名で 180,000円(税別) / 198,000円(税込)
- 5名様でお申し込みの場合 : 5名で 210,000円(税別) / 231,000円(税込)
- 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
- 請求書は、代表者にご送付いたします。
- 他の割引は併用できません。
アカデミック割引
- 1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)
日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。
- 学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院、短期大学、附属病院、高等専門学校および各種学校の教員、生徒
- 病院などの医療機関・医療関連機関に勤務する医療従事者
- 文部科学省、経済産業省が設置した独立行政法人に勤務する研究者。理化学研究所、産業技術総合研究所など
- 公設試験研究機関。地方公共団体に置かれる試験所、研究センター、技術センターなどの機関で、試験研究および企業支援に関する業務に従事する方
- 支払名義が企業の場合は対象外とさせていただきます。
- 企業に属し、大学、公的機関に派遣または出向されている方は対象外とさせていただきます。
アーカイブ配信セミナー
- 当日のセミナーを、後日にお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
- 配信開始となりましたら、改めてメールでご案内いたします。
- 視聴サイトにログインしていただき、ご視聴いただきます。
- 視聴期間は2026年3月9日〜19日を予定しております。
ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。 - セミナー資料は別途、送付いたします。