プラズマ技術の基礎とドライエッチングへの応用

産業界で利用されるプラズマに関し、基礎から講演します。プラズマ中に生成される電子、イオン、ラジカルのふるまいについてお話します。産業界のプラズマは低温プラズマと呼ばれていますが、その低温プラズマの基本的な性質について説明します。　産業界では、容量結合プラズマ (CCP) や誘導結合プラズマ (ICP) 、電子サイクロトロン共鳴 (ECR) プラズマが利用されています。これらのプラズマ源の特長について説明します。　プラズマの応用例として、ドライエッチングについて説明します。エッチングプロセスは複雑ですが、ラジカルやイオンの役割を知れば、理解できます。ドライエッチングの中でも微細加工が可能な技術である反応性イオンエッチング (RIE) について説明します。ラジカルと高エネルギーイオンの役割に基き、RIEのプロセスを説明します。最後にスパッタエッチングのエッチング速度を求める演習を行います。

プラズマを利用している分野
1. 産業界のプラズマの写真
2. プラズマを利用してできること
3. プラズマプロセシングについて:プラズマの産業界への応用
産業界におけるプラズマの基礎的性質
1. 低温プラズマについて
2. 産業界におけるプラズマ:電子密度 (プラズマ密度) と電子温度
3. 放電について、放電の起き易さ
4. プラズマ技術の用語と単位
プラズマ中に生成される粒子:電子、イオン、ラジカル
1. 電離と解離について
2. 電子、イオン、ラジカルについて
3. 電離、解離と電子エネルギー分布:プラズマ中の電子の役割
4. プラズマプロセシング:物理的プロセスと化学反応を伴うプロセス
無磁場のプラズマと磁化プラズマ
1. 無磁場のプラズマ
2. 磁化プラズマ
3. プラズマ振動数 (周波数) 、衝突周波数、サイクロトロン (ラーモア) 周波数について
4. ドリフトについて
5. プラズマ装置の種類と用途
6. エッチング装置向けのプラズマについて
容量結合プラズマ (CCP) とCCPの応用
1. CCP装置:歴史のあるプラズマ
2. CCPの応用:エッチングの場合とCVDの場合
3. CCP装置の等価回路、RF電源が1台の場合
4. CCP装置の等価回路、RF電源が2台の場合
誘導結合プラズマ (ICP) とICPの応用
1. ICP装置:高密度プラズマの例その1
2. 生産性向上のため、ICPで高密度化が可能
3. ICP装置の等価回路
4. 真空装置設計上の留意点
磁気中性線放電 (NLD) プラズマ:誘導結合型磁化プラズマの例
1. NLDプラズマ装置:高密度プラズマの例その2
2. NLDプラズマ装置の等価回路
3. NLDとICPの比較
マイクロ波プラズマ、電子サイクロトロン共鳴 (ECR) プラズマ
1. 立体回路とプラズマ源
2. ECRプラズマ生成の条件
3. ECRプラズマ装置:高密度プラズマの例その3
4. プラズマ中の波動、CMA図 (プラズマ中の波動の図)
5. ECRプラズマを生成するためには:プラズマ物理の基礎
6. プラズマ装置設計上の留意点
シース:プラズマプロセシングで重要なシースについて
1. プラズマ、固体表面、及びシース
  - シースの性質
  - シースの役割
  - シースの重要性
2. RFバイアス印加、シース電圧、及びイオンエネルギー
プラズマ計測診断技術、プラズマ装置のモニタリング技術
1. ラングミュアプローブ:電子密度と電子温度の計測
2. プラズマ装置に発生する高電圧の計測:
  1. RFアンテナに発生する高電圧の計測
  2. マッチングボックス出口とウエハ表面におけるVppとVdc
3. シース電場で加速されたイオンフラックスのエネルギー分布の計測
ドライエッチング
1. スパッタエッチング:物理的エッチング
2. スパッタエッチングの再現性:残留ガス成分
3. プラズマエッチング:化学反応を伴うエッチング
4. 反応性イオンエッチング (RIE) の重要性:微細加工のために
反応性イオンエッチング (RIE) :微細加工を実現する方法
1. RIEはイオンアシストエッチング:ラジカルとイオンの役割
2. ラジカルは等方的、イオンは異方的
3. フラックスについて:ラジカルフラックスとイオンフラックス
RFバイアスについて:イオンエネルギーの制御
1. 高エネルギーイオンはシースで作られる
2. 基板へ入射するイオンフラックスの状態:イオンフラックスのエネルギー分布
3. エッチングプロセスとイオンエネルギーの関係
反応性イオンエッチング (RIE) :微細加工のために
1. ドライエッチングにおける表面反応モデル
2. RIEのために:大フラックス、高エネルギーイオン、及び基板冷却
3. 酸化膜SiO2のRIEの実例
思考実験:スパッタエッチングをやってみましょう (演習)
1. 固体表面に存在する原子の数 (面密度)
2. イオンフラックスとイオンエネルギーの条件
3. スパッタエッチングの場合のエッチング速度の計算
まとめ
- プラズマ技術
- プラズマ装置関連技術
- ドライエッチング技術

質疑応答

案内割引・複数名同時申込割引について

R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
案内および割引をご希望される方は、お申込みの際、「案内の希望 (割引適用)」の欄から案内方法をご選択ください。

「案内の希望」をご選択いただいた場合、1名様 40,000円(税別) / 44,000円(税込) で受講いただけます。
複数名で同時に申込いただいた場合、1名様につき 25,000円(税別) / 27,500円(税込) で受講いただけます。

R&D支援センターからの案内を希望する方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 40,000円(税別) / 44,000円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
R&D支援センターからの案内を希望しない方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)

会場受講 / ライブ配信対応セミナー / アーカイブ配信対応セミナー

会場受講、ライブ配信、アーカイブ配信のいずれかをご選択いただけます。

会場受講をご希望の場合

ライブ配信、アーカイブ配信のサービスは受けられません。
翌営業日までに、請求書、受講票、会場までの地図を発送させていただきます。

ライブ配信対応セミナー / アーカイブ配信対応セミナー

「Zoom」を使ったライブ配信またはアーカイブ配信セミナーのいずれかをご選択いただけます。
お申し込み前に、 Zoomのシステム要件とテストミーティングへの参加手順をご確認いただき、テストミーティングにて動作確認をお願いいたします。
開催日前に、接続先URL、ミーティングID、パスワードを別途ご連絡いたします。
セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。

ライブ配信セミナーをご希望の場合

Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。

アーカイブ配信セミナーをご希望の場合

セミナー資料は、PDFファイルをダウンロードしていただきます。
当日のセミナーを、後日にお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
配信開始となりましたら、改めてメールでご案内いたします。
視聴サイトにログインしていただき、ご視聴いただきます。
視聴期間は2026年1月29日〜2月5日を予定しております。
ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。