本セミナーでは、プロセスプラズマの基礎から解説し、プロセスプラズマ内における活性粒子の生成・消滅 (反応) 過程、活性粒子や荷電粒子の各種計測法の原理・実践方法、活性粒子による反応メカニズムを考慮したプロセス条件の最適化について詳解いたします。
低温プラズマを用いたプロセス技術は、我々の生活に欠かせない半導体デバイスをはじめ機械・電気部品などの広くモノづくりの現場で利用されており、さらに近年では医療やバイオ分野への応用研究も盛んに行われています。この低温プラズマは気体放電により生成されますが、それと同時にその内部では物理・化学的な作用をもたらす数多くの荷電粒子や中性活性粒子も気相中に生成されます。それら粒子が基材上に到達し、引き起こされる表面反応を利用した技術がプラズマプロセスです。そのため、それら粒子の診断・モニタリングすることがプロセス反応の理解とその最適化に向けた課題となります。 今回紹介するプラズマの診断・モニタリング技術は、それら粒子の密度や状態を知るための重要なツールです。本講演では、まずプラズマ内における活性粒子の反応過程など基礎的な解説を行いつつ、それら粒子の分析に利用される各種計測法の原理と具体的な実施例について説明したのち、それを基にしたプラズマプロセスの最適化例を紹介します。以上を通じて、プラズマプロセスにおける活性粒子の診断とモニタリング技術を知って頂くとともに、本技術をもとに分析される反応メカニズムの理解、さらには活性粒子に関する知見を基にしたプロセスの最適化を検討して頂く契機となることを期待します。
R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
案内および割引をご希望される方は、お申込みの際、「案内の希望 (割引適用)」の欄から案内方法をご選択ください。
「案内の希望」をご選択いただいた場合、1名様 42,000円(税別) / 46,200円(税込) で受講いただけます。
複数名で同時に申込いただいた場合、1名様につき 22,500円(税別) / 24,750円(税込) で受講いただけます。