先端技術の粋が集められた表面分析装置は、ナノテクを中心とした技術開発に欠かせない存在です。分析の対象は、半導体素子、医薬品、など様々であり、その使用目的もプロセス開発、品質管理、など多岐にわたっています。
特に近年の表面分析装置はユーザーフレンドリーであり、比較的容易に相応の結果を得ることができます。その反面、いわゆるブラックボックス化が進んでいるため、表面分析の基礎や原理が蔑ろにされがちです。また、出力されたグラフや数値を確認しても、考察が不十分になる、他のデータとの不整合を見過ごす、等の問題が生じる可能性があります。そこで本セミナーでは、基礎事項として、サンプル表面に入射するX線、電子、イオンの特徴、これらと表面との相互作用、出力に至るまでの信号の流れ、等を分かり易く解説します。また、代表的な表面分析の原理や分析結果の例を紹介します。加えて、表面分析の応用として、マッピング、深さ分析について説明します。
- 表面分析の概要
- はじめに
- 代表的なフロー
(入射→相互作用→認識)
- 表面分析の構成要素
- 入射
- X線
- 電子
- イオン
- 相互作用
- X線と表面の相互作用
- 電子と表面の相互作用
- イオンと表面の相互作用
- 認識
- 検出器
- 表示
- その他
- 真空
- ステージ
- 表面形状観察
- 光学顕微鏡
- SEM
- レーザー顕微鏡
- SPM
- 表面元素等分析
- XRF
- XPS
- AES
- S-SIMS
- 表面分析の応用
- マッピング
- SEM-EDS
- EPMA
- AES
- S-SIMS
- XRF
- XPS
- 深さ分析
- D-DIMS
- スパッタリングの併用
- RBS
- 補足
- まとめ
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