レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策

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本セミナーでは、レジストの基礎からリソグラフィープロセスの最適化方法までを分かりやすく解説いたします。

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プログラム

  1. リソグラフィの基礎
    1. リソグラフィーとは
    2. 露光システムとリソグラフィー装置の変遷
    3. 解像度向上技術とそれに必要な材料
  2. レジスト材料とその高性能化
    1. パターンニング用レジスト材料 (総論)
    2. G線、i線用レジスト
    3. KrF用レジスト
    4. ArFおよびArF液浸用レジスト
    5. EUV用レジスト
    6. 後工程 (実装材料) 用のレジスト
  3. レジスト製造技術と品質管理
    1. レジスト製造技術
    2. レジストの性能安定化技術
    3. 品質管理 – その項目と管理方法
  4. レジスト材料の評価技術
    1. 性能評価
      • 素材 (樹脂、感光剤、添加物) やレジストの簡便かつ安価な評価方法
    2. 品質評価
      • 顧客からの要求項目、スペック項目についての評価方法
    3. シミュレーション技術
  5. レジスト製造、および使用現場におけるトラブル対応
    1. 素材 (樹脂、感光剤、添加物) 製造時のトラブル
    2. レジスト製造時のトラブル
    3. レジスト販売時のトラブル
    4. レジスト使用時のトラブル
      • 上記のそれぞれについて、(1)原因、(2)評価方法、(3)解決策を、材料面およびリソグラフィープロセス面から述べ、あわせて顧客対応策について詳述します。
  6. 20nm以下のリソグラフィー技術
    1. ダブルパターンニング技術
    2. DSA技術とその材料
    3. ナノインプリント技術
    4. 今後のリソグラフィー技術

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