本セミナーでは、実務に必要な真空工学、表面物性工学、プラズマ工学、薄膜工学の知識、各種薄膜形成技術の原理・特徴、所望の特性を得るための薄膜形成条件を決めるための基礎知識、薄膜形成に関するトラブルの診断に必要な基礎について、具体的事例を交えながら詳しく解説いたします。
日時
- 2025年7月30日 10時00分〜 2025年7月30日 16時00分
開催予定
プログラム
薄膜技術は、半導体集積回路やフラットパネルディスプレイなどの電子デバイス製造はもちろんのこと、光学、太陽電池、建材、食品産業、医療と、さまざまな産業分野を支える基幹技術です。現在では多機能で高性能な薄膜形成装置が市販されており、かつてと比べて容易に薄膜形成が行えるようになりました。ややもすると、薄膜形成装置は単なるブラックボックスで、そのしくみや薄膜形成の原理をよく理解せず、決められた手順だけ守って日々の仕事をこなす状況になりがちです。 しかしながら、新規の条件で薄膜形成を行う場合、所望の薄膜を得るためには各種条件が膜質におよぼす影響を考慮しつつ、条件を選択する必要があります。また、薄膜形成プロセスで遭遇する種々のトラブルに際しては、その原因を診断し、適切に対処すること求められます。そのようなときに必要になるのが、薄膜技術に関する基本的かつ系統的な知識です。 本講座では、薄膜技術に携わる方々を対象に、これらの技術に関する基礎的かつ系統的な知識を習得し、実際の業務に生かして頂くことを目標とします。
- 成膜技術ための基礎知識
- 真空工学
- 表面物性工学
- プラズマ工学
- 物理気相成長 (PVD) 法
- 真空蒸着法
- 原理
- 真空蒸着法の種類
- 真空蒸着法の留意事項
- スパッタ法
- 原理
- スパッタ法の種類
- スパッタ法で作製される薄膜の特長
- スパッタ法の留意事項
- 真空蒸着法
- 化学気相成長 (CVD) 法
- 原理
- 化学気相成長法の種類
- 化学気相成長法による薄膜形成例
- 化学気相成長法の留意事項
- 薄膜評価法
- 形態観察
- 膜組成、膜構造分析
- 付着力、膜応力測定
- 電気的特性、光学的特性測定
- 成膜プロセスで遭遇する さまざまなトラブル
- 膜質に関するトラブル
- 装置に関するトラブル
- まとめ
- 質疑応答
受講料
- 1名様: 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 複数名: 40,000円(税別) / 44,000円(税込)
複数名同時申込割引について
複数名で同時に申込いただいた場合、1名様につき 40,000円(税別) / 44,000円(税込) で受講いただけます。
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 80,000円(税別) / 88,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 120,000円(税別) / 132,000円(税込)
ライブ配信対応セミナー / アーカイブ配信対応セミナー
- 「Zoom」を使ったライブ配信またはアーカイブ配信セミナーのいずれかをご選択いただけます。
- お申し込み前に、 Zoomのシステム要件 と テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
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- セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
- セミナー資料は、PDFファイルを配布予定です。
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- ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
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- 当日のセミナーを、後日にお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
- 配信開始となりましたら、改めてメールでご案内いたします。
- 視聴サイトにログインしていただき、ご視聴いただきます。
- 視聴期間は2025年8月6日〜12日を予定しております。
ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。