シリカナノ粒子の合成と化学修飾による高機能化

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本セミナーでは、中空粒子などのシリカ合成法から表面改質、分散・凝集のコントロール技術までを解説いたします。

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プログラム

シリカナノ粒子 (コロイダルシリカ) とは、二酸化ケイ素から構成される数十〜数百nmの球状粒子のことであり、粒径制御が容易で光学的に透明であり、絶縁性や機械的強度に優れているため、基礎研究から産業界まで広く利用されています。  本講演では、シリカナノ粒子の合成およびその化学修飾 (化学吸着および物理吸着) について古典的な手法から最先端の技術まで概説します。単なる技術の紹介にとどまらず、それら合成 (修飾) 法の設計指針にまで踏み込んでお話しします。また、書面上では説明しづらい、講演者が長い年月をかけて習得したシリカナノ粒子の合成 (修飾) 時の勘所についても、できる限りお伝えします。

  1. 始めに
  2. ナノ粒子の科学
    1. シリカナノ粒子の性質
    2. ナノ粒子合成の科学 (ラメールのダイヤグラム)
    3. ナノ粒子分散の科学 (DLVO理論)
  3. 一般的なシリカナノ粒子の合成法と粒径制御
    1. ストーバー法
    2. 逆ミセル法
    3. シード媒介成長法
  4. 内部に空隙部を有するシリカナノ粒子の合成法
    1. メソポーラスシリカナノ粒子
    2. ラトル型シリカナノ粒子
    3. 中空シリカナノ粒子
  5. 化学吸着によるシリカナノ粒子の機能化
    1. ストーバー法 (内部修飾)
    2. 逆ミセル法 (内部修飾)
    3. シランカップリング剤による修飾 (表面修飾)
    4. 高分子による修飾 (表面修飾)
  6. 物理吸着によるシリカナノ粒子の機能化
    1. ストーバー法 (内部修飾)
    2. 逆ミセル法 (内部修飾)
    3. シード媒介成長法 (表面修飾)
    4. 高分子による修飾 (表面修飾)
    5. 再沈殿法 (表面修飾)
  7. 終わりに

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