ZnOを中心とする酸化物半導体は透明ディスプレイなど次世代情報端末の実現に重要な材料である。移動度の高い高性能薄膜トランジスタを低温プロセスで大面積基板の上に形成できるなど、すぐれた特徴を持つ。 本講演では非晶質InGaZnO薄膜やZnO薄膜を中心に、基本的な材料物性、薄膜トランジスタの動作原理、作製プロセス (液体プロセスから真空プロセスまで) 、高性能化技術、高信頼性化技術など、幅広くその関連技術を紹介し、さらにはその将来を展望する。