レジスト/EUVレジスト・微細加工用材料の基礎と具体的なトラブル対策

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本セミナーでは、リソグラフィの基礎知識・最新技術、レジスト材料・微細加工用材料の基礎、微細加工用材料の特性、レジスト材料・微細加工用材料の課題・対策、レジスト材料の最新技術・ビジネス動向まで、具体的に分かりやすく解説いたします。

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プログラム

本講演では、リソグラフィの基礎を解説した後、デバイスの微細化を支えるレジストの基礎をEUVレジスト (化学増幅型EUVレジスト、EUVネガレジストプロセス、EUVメタルレジスト、EUVメタルドライレジストプロセス) の詳細を含めて述べます。  レジスト・微細加工用材料のトラブル対策をその要求特性、課題をふまえて解説します。EUVレジストの課題と対策についても述べます。最後に最新のロードマップと先端デバイスの動向を解説し、今後のレジスト・微細加工用材料の技術展望、市場動向についてまとめます。

  1. リソグラフィの基礎
    1. 露光
    2. 照明方法
      1. 輪帯照明
    3. マスク
      1. 位相シフトマスク
      2. 光近接効果補正 (OPC)
      3. マスクエラーファクター (MEF)
  2. レジストの基礎
    1. 溶解阻害型レジスト
      1. g線レジスト
      2. i線レジスト
    2. 化学増幅型レジスト
      1. KrFレジスト
      2. ArFレジスト
    3. ArF液浸レジスト/トップコート
    4. EUVレジスト
      1. 化学増幅型EUVレジスト
      2. EUVネガレジストプロセス
      3. EUVメタルレジスト
      4. EUVメタルドライレジストプロセス
  3. レジスト・微細加工用材料のトラブル対策
    1. レジストパターン形成不良への対応
      1. パターン倒れ
      2. パターン密着性不良
      3. パターン形状不良
      4. チップ内のパターン均一性不良
    2. 化学増幅型レジストのトラブル対策
      1. レジスト材料の安定性
      2. パターン形成時の基板からの影響
      3. パターン形成時の大気からの影響
    3. ArF液浸レジストのトラブル対策
    4. ダブルパターニング、マルチパターニングのトラブル対策
      1. リソーエッチ (LE) プロセス用材料
      2. セルフアラインド (SA) プロセス用材料
    5. EUVレジストの課題と対策
      1. 感度/解像度/ラフネスのトレードオフ
      2. ランダム欠陥 (Stochastic Effects)
    6. 自己組織化 (DSA) リソグラフィのトラブル対策
      1. グラフォエピタキシー用材料
      2. ケミカルエピタキシー用材料
    7. ナノインプリントリソグラフィのトラブル対策
      1. 加圧方式ナノインプリントリソグラフィ
      2. 光硬化方式ナノインプリントリソグラフィ
  4. 最新のロードマップと先端デバイスの動向
  5. レジスト・微細加工用材料の技術展望、市場動向

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