第1部 エレクトロニクス分野における導体 (Cu) と絶縁材料 (樹脂&ガラス) との異種材料接着・接合技術
(10:30〜12:00)
PCB基板 (Rigid & Flexible) 製造において、導体である銅 (Cu) と絶縁基板材料との接着・接合は極めて重要である。特に、高周波を用いる高速・大容量通信5G/6Gにおいては、基板材料がより低誘電率・低誘電正接な材料へ変更になり、かつ、高周波領域では導体損失が大きくなることから低粗度界面で従来同等以上の高い密着力実現が必須となっており、Cuと基板材料 (例えば、フッ素樹脂, 液晶ポリマー, モディファイドポリイミドなど) との異種材料接着・接合技術が重要となっている。また、PCB基板と半導体チップとを接続するICサブストレートコア材料においても、従来の樹脂ベース材料からガラスへ切り替える検討が急速に進んでおり、Cuとガラス基板との異種材料接着・接合技術が重要となっている。
本講演では、高速・大容量通信の最新市場動向について述べ、続いて、絶縁材料である樹脂およびガラスとCuとの接着・接合技術の動向について具体的事例をあげながら分かり易く解説する。
- 高速・大容量通信5G/6Gの市場動向
- 高周波帯における低伝送損失基板材料の動向
- モディファイドポリイミド
- 液晶ポリマー
- フッ素樹脂
- 環状オレフィンポリマー、など
- Cuと樹脂&ガラスとの接着・接合
- 異種材料界面における接着・接合技術
- 求められる界面粗度と接着力
- ガラスコアの市場動向とガラス加工の現状
〜穴あけ・メタライズ〜
- まとめ
- 質疑応答
第2部 光表面化学修飾技術による表面高機能性付与および異種材料接合への展開
(13:00〜14:30)
近年、基材特性を維持しつつ、表面層に高機能性を付与する表面改質技術が注目されている。本講演では、紫外光を利用した温和で簡便な表面化学修飾ナノコーティング技術を用いた各種官能基化技術による表面高機能化・界面制御技術について紹介するとともに、本技術を利用した異種材料接合技術への応用展開についても紹介する。
- 表面化学修飾技術の動向
- 各種表面化学修飾技術
- 光化学反応による表面化学修飾技術
- 酸素官能基化技術
- 硫黄官能基化技術
- 窒素官能基化技術
- フッ素フリー撥水化技術
- 異種材料接合技術への適用事例紹介
- 樹脂/銅接合
- 液晶ポリマー・ポリイミド・フッ素樹脂
- 質疑応答
第3部 B5G/次世代半導体パッケージ向けプラズマ表面改質による直接銅めっき及び直接接着技術
- ガラス基板への展開も -
(14:45〜16:15)
B5G/6Gでは、低誘電樹脂への投錨効果や接着剤に用いず銅めっきや銅箔との密着性を確保する技術が、次世代半導体パッケージでは、ガラス基板が検討されているが、ガラスへの直接銅めっき、フイルムとの直接接着技術が確立できていない。電子技研では、減圧プラズマを用いた表面改質により基材表面に強固に結合した官能基 (-NH基) を形成することにより、ガラス及び低誘電樹脂への直接銅めっき、および樹脂を直接接着する技術を開発した。
本講演では、本表面改質の原理から実例及び信頼性までを解説するとともに、ガラス基板に関しては、熱膨張係数差に起因するCu/ガラス基板の信頼性低下防止のための無機バッファを用いた取り組みも紹介する。
- 株式会社 電子技研の会社紹介
- 技術課題
- プラズマを用いた表面改質による接着原理および状態評価
- 表面改質を用いた直接めっき、直接接着技術原理
- 表面改質を用いた直接めっき
- 低誘電率樹脂への直接銅めっき
- ビア、スルーホールへの高密着直接銅めっき
- 表面改質を用いた接着剤レス直接接着技術
- 低誘電率樹脂と金属 (Cu) 、低誘電率樹脂との直接接着
- 直接接着の応用
- コア材 (PI、LCP) を用いた多層膜の直接接着
- ガラス基板への展開 (パッケージ基板対応)
- ガラスへの直接銅めっき
- ガラスと樹脂の直接接着
- 封止樹脂・接着剤の接着強度改善技術
- 接着剤の接着強度改善 (Cu/エポキシ系接着剤)
- 異種材料の密着 (金、セラミックスとシリコーン接着剤の密着強度up)
- 高耐熱封止樹脂の密着性改善
- 応用技術 (粉体材料への応用)
- 質疑応答
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