半導体デバイスの物理的洗浄手法

近年、半導体デバイスの進化はものすごいスピードを進んでいます。このセミナーは半導体デバイスの物理的洗浄に関して説明を行います。 　セミナーでは半導体デバイスのマーケットの動向と業界動向から半導体の基礎、流体力学、から説明を行い、現在半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から丁寧に説明します。また、講演者が専門としている半導体デバイス製造時の静電気障害の対策についても紹介します。基礎的なことからお話しますので、半導体デバイス洗浄に関わる3〜4年の方や半導体デバイス洗浄にビジネスをお探しの方に最適かと思います。

1. 半導体デバイスのマーケットの動向と業界動向
2. 半導体デバイスの物理的洗浄の必要性
   1. 半導体デバイスの基礎
   2. 半導体製造プロセス
   3. 半導体デバイス製造プロセスにおける洗浄の必要性
   4. 化学的洗浄と物理的洗浄
3. 水流を利用した洗浄について
   1. 流体力学の基礎
   2. 高圧スプレー洗浄
   3. 二流体スプレー洗浄
   4. 超音波洗浄スプレー洗浄
   5. ブラシ洗浄
   6. 次世代の物理的洗浄技術
4. スプレー洗浄時の静電気障害
   1. 静電気の基礎
   2. 半導体デバイスの洗浄の静電気障害
   3. スプレー時に発生する静電気と静電気障害のメカニズム
5. 最先端の洗浄方法 (表面処理)
• 学会等からの情報