本セミナーでは、最近のポリイミドの高性能化の技術動向、構造改良・改質による高機能化について解説いたします。
特に、ポリイミド及びジアミンモノマーの合成法の実際・ノウハウ、これらの新規なポリイミドの構造-物性相関に関して詳解いたします。
日時
- 2012年9月7日 12時30分〜 2012年9月7日 16時30分
中止
プログラム
ポリイミドは1960年代にDuPont社 (米) により開発された代表的な耐熱性ポリマーであり、電子材料から宇宙、航空材料まで広範に使用されている。また、化学構造の改良・改質も精力的に研究されており、更なる高性能化や新しい機能の付与も続々と達成されている。 本講演では、先ず、最近のポリイミドの高性能化の技術動向を概説する。次に、演者が20年来、携わってきたポリイミドの構造改良・改質による高機能化について述べる。この高性能化はポリイミドに用いる新規なジアミンモノマー類の開発、高分子反応の開発などにより達成されており、応用分野としては液晶配向膜やプリンテッド・エレクトロニクスが挙げられる。 尚、演者の専門分野の立場から、「ポリイミド及びジアミンモノマーの合成法の実際・ノウハウ」、「これらの新規なポリイミドの構造-物性相関」に関しては特に詳述する。
- 序論
- ポリイミドの合成概論
- ポリイミドの物性概論
- ポリイミドの高性能化
- 耐熱性
- 光学特性
- 溶解性
- ポリイミドの高機能化
- 目的
- 高機能化の手法概論
- 長鎖アルキル基を含有するジアミンモノマーの合成
- 複数の長鎖アルキル基・デンドロン構造を有するジアミンモノマーの合成
- 長鎖アルキル基置換アゾベンゼン構造を有するジアミンモノマーの合成
- 高分子反応による各種官能基の導入
- 可溶性ポリイミドの合成方法
- ポリイミドの分子構造解析
- 溶解性・耐熱性など基礎的物性の測定
- 液晶配向膜としての応用
- 紫外線照射による表面濡れ性変化 (プリンテッド・エレクトロニクスへの応用)
- 表面分析 (ATR, XPS、AFM)
- 結語
- 質疑応答・名刺交換・個別相談
会場
受講料
- 1名様: 47,600円(税別) / 52,360円(税込)
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