ポリイミドの高性能化・高機能化

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会場 開催

本セミナーでは、最近のポリイミドの高性能化の技術動向、構造改良・改質による高機能化について解説いたします。
特に、ポリイミド及びジアミンモノマーの合成法の実際・ノウハウ、これらの新規なポリイミドの構造-物性相関に関して詳解いたします。

日時

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プログラム

ポリイミドは1960年代にDuPont社 (米) により開発された代表的な耐熱性ポリマーであり、電子材料から宇宙、航空材料まで広範に使用されている。また、化学構造の改良・改質も精力的に研究されており、更なる高性能化や新しい機能の付与も続々と達成されている。  本講演では、先ず、最近のポリイミドの高性能化の技術動向を概説する。次に、演者が20年来、携わってきたポリイミドの構造改良・改質による高機能化について述べる。この高性能化はポリイミドに用いる新規なジアミンモノマー類の開発、高分子反応の開発などにより達成されており、応用分野としては液晶配向膜やプリンテッド・エレクトロニクスが挙げられる。  尚、演者の専門分野の立場から、「ポリイミド及びジアミンモノマーの合成法の実際・ノウハウ」、「これらの新規なポリイミドの構造-物性相関」に関しては特に詳述する。

  1. 序論
  2. ポリイミドの合成概論
  3. ポリイミドの物性概論
  4. ポリイミドの高性能化
    1. 耐熱性
    2. 光学特性
    3. 溶解性
  5. ポリイミドの高機能化
    1. 目的
    2. 高機能化の手法概論
    3. 長鎖アルキル基を含有するジアミンモノマーの合成
    4. 複数の長鎖アルキル基・デンドロン構造を有するジアミンモノマーの合成
    5. 長鎖アルキル基置換アゾベンゼン構造を有するジアミンモノマーの合成
    6. 高分子反応による各種官能基の導入
    7. 可溶性ポリイミドの合成方法
    8. ポリイミドの分子構造解析
    9. 溶解性・耐熱性など基礎的物性の測定
    10. 液晶配向膜としての応用
    11. 紫外線照射による表面濡れ性変化 (プリンテッド・エレクトロニクスへの応用)
    12. 表面分析 (ATR, XPS、AFM)
  6. 結語

会場

大阪市立中央会館
542-0082 大阪府 大阪市 中央区島之内2丁目12-31
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受講料

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