第1部 熱・光ナノインプリント法による微細加工と半導体デバイスへの適用
(2024年10月31日 10:30〜14:30)※途中、お昼休憩含む
- ナノインプリントの半導体応用
- ナノインプリントとは
- ナノインプリントの特徴と応用領域
- 熱ナノインプリント,ダイレクトナノインプリントのメカニズムと欠陥対策
- 熱、ダイレクトナノインプリントの原理
- 形状
- 膜厚依存性と欠陥
- 高アスペクト比構造
- レンズ構造における欠陥例とその解消
- 高圧プレス下での欠陥と面内均一性
- 分レベルの挙動と限界解像性
- UV (光) ナノインプリントのメカニズムと欠陥対策
- レジスト充填プロセスとバブル欠陥と対策
- UV照射プロセスと回折・干渉による欠陥と対策
- UV硬化プロセスと欠陥と対策
- 分子レベルの流動性と硬化特性
- 離型の原理と欠陥対策
- 破壊力学による離型の原理
- 化学的手法による欠陥対策
- 機械的手法による欠陥対策
- AR/VR用傾斜回折格子における離型欠陥の発生とその抑制
- 離型の分子レベルの挙動
- 今後の展開と期待
- 半導体チップレット技術 (再配線プロセス) への展開
- フラットレンズ、AR/VRグラスへの応用
- カーボンニュートラルへの取り組み
- 人工知能利用によるプロセス・材料設計
第2部 EUVレジストおよびナノインプリントレジストの開発と今後の展望
(2024年10月31日 14:45〜16:15)
我々の生活に不可欠な先端デバイスの開発は止まることなく進んでおり、そのためにはリソグラフィの微細化が非常に重要な因子である。その実現のために不可欠なフォトレジスト開発、特にはEUVレジストの開発と歴史を理解することは、今後のリソグラフィ発展に重要な意味を持つ。加えて、別オプションとして長年開発されてきたナノインプリントリソグラフィの半導体分野への適用も日の目をみようとしている。これら昨今話題の半導体を理解するうえでの一助となると期待する。
- 昨今のプレスリリースから紐解く
- ナノインプリントリソグラフィの半導体分野への適用状況
- 富士フイルム、キヤノン、キオクシア、DNP
- 私たちの世の中を取り巻く環境
- エッヂAI、半導体に関する国プロジェクト (Rapidus/LSTC) 解説、など
- 富士フイルムのエレクトロニクスマテリアルズへの取り組み
- リソグラフィの歴史
- パターン微細化と露光波長、次世代リソグラフィの歴史
- EUVレジスト 課題と解決の例
- EUVリソグラフィの必要性と難しさ
- ナノインプリントレジスト
- なぜに、ナノインプリント?どこまできた?
複数名同時受講割引について
- 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 45,000円(税別) / 49,500円(税込) で受講いただけます。
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 99,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 148,500円(税込)
- 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
- 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
- 他の割引は併用できません。
アカデミック割引
- 1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)
日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。
- 学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院、短期大学、附属病院、高等専門学校および各種学校の教員、生徒
- 病院などの医療機関・医療関連機関に勤務する医療従事者
- 文部科学省、経済産業省が設置した独立行政法人に勤務する研究者。理化学研究所、産業技術総合研究所など
- 公設試験研究機関。地方公共団体に置かれる試験所、研究センター、技術センターなどの機関で、試験研究および企業支援に関する業務に従事する方
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