等方性ドライエッチングメカニズムと最先端技術

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本セミナーでは、エッチング技術の基礎・メカニズムから解説し、等方性エッチング技術のニーズとメカニズム、現在IntelやTSMC, Samsung, SK Hynixなど最新半導体デバイスを製造しているメーカが検討している先端エッチング技術までを解説いたします。

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プログラム

台湾TSMCの熊本工場、北海道のラピダスの設立など半導体製造メーカの新聞報道などが続いています。半導体デバイスの加工にはエッチング技術が欠かせませんが、昨今のデバイスの3次元化に伴い、従来の異方性加工 (垂直方向) のニーズだけでなく、等方性加工 (横方向) に注目が集まっています。  本セミナーでは等方性エッチング技術のニーズと基礎メカニズムの説明からスタートし、現在IntelやTSMC, Samsung, SK Hynixなど最新半導体デバイスを製造しているメーカが検討している先端エッチング技術までを紹介します。等方性エッチング技術にも多くの課題があり、そのブレークスルー技術についてもご紹介いたします。

  1. ドライエッチングの基礎
    1. ドライエッチングとは?
    2. 異方性エッチングと等方性エッチング
  2. 等方性エッチングのニーズとメカニズム
    1. 等方性エッチングのニーズ
    2. 等方性エッチングのメカニズム
  3. 等方性エッチングの例
    1. ウエットエッチング
    2. ガスエッチング
    3. 原子層エッチング (Atomic Layer Etching: ALE)
    4. 等方性エッチング装置
  4. 等方性エッチングの課題
  5. 最新等方性エッチング技術
    1. ロジックデバイス向け等方性エッチング技術
    2. メモリデバイス向け等方性エッチング技術

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