スパッタ法や真空蒸着法、化学気相成長 (CVD) 法は、先端材料研究をはじめ、電子デバイス,太陽電池,建材、さらには食品産業まで、さまざまな分野で使用されており、今や我々の生活と切っても切り離せない技術になっています。エレクトロニクスや真空技術の進歩により、現在では高性能な成膜装置が市販されていますが、これらを使いこなすには適切な知識が必要です。たとえば、新たな条件で成膜を行おうとすると、所望の薄膜を得るために条件出しを行わなければなりません。また、成膜プロセスでトラブルが発生すると、その対処に頭を悩ませることになります。そのようなときに必要になるのが、成膜技術に関する基本的かつ系統的な知識です。
本講座では、真空蒸着法やスパッタ法、CVD法などを用いた成膜技術に携わる方々を対象に、これらの技術に関する基礎的かつ系統的な知識を習得し、実際の業務に生かして頂くことを目標とします。
- 成膜技術に必要な真空・表面物性工学
- 気体分子運動論の基礎
- 真空工学の基礎
- 表面物性工学の基礎
- 真空蒸着法
- 真空蒸着法の原理
- 真空蒸着法の種類と装置例
- 真空蒸着法で作製される薄膜の例
- 真空蒸着法を適用する際の留意事項
- スパッタ法
- スパッタ法の原理
- スパッタ法の種類と装置例
- スパッタ法で作製される薄膜の例
- スパッタ法を適用する際の留意事項
- 化学気相成長 (CVD) 法
- CVD法の原理
- CVD法の種類と装置例
- CVD法で作製される薄膜の例
- CVD法を適用する際の留意事項
- 薄膜評価法
- 表面モルフォロジ、ステップカバレッジ
- 膜組成、膜構造
- 付着力、膜応力
- 電気的特性、光学的特性
- 成膜プロセスで遭遇するトラブル例と対処法
- 膜質に関するトラブル
- 装置に関するトラブル
案内割引・複数名同時申込割引について
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- 配信開始となりましたら、改めてメールでご案内いたします。
- 視聴サイトにログインしていただき、ご視聴いただきます。
- 視聴期間は2024年10月11日〜18日を予定しております。
ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。