本セミナーでは、プラズマの基礎から解説し、低圧~大気圧までの各種プラズマ生成、表面処理、表面改質、評価方法について詳解いたします。
日時
- 2012年7月23日 13時00分〜 2012年7月23日 16時30分
開催予定
プログラム
本講座では、最近注目されているドライプラズマプロセスについて、低圧から大気圧までの各種プラズマの生成方法から、それらのプラズマを用いた各種基材の表面処理技術の基礎と応用、および評価法について、分かりやすく解説する。
- プラズマの生成と制御
- プラズマの基本的性質
- プラズマ生成技術 – 低圧力から大気圧まで -
- プラズマを用いた表面処理技術
- エッチング
- アッシング
- プラズマCVD
- ダイヤモンドライクカーボン薄膜
- カーボンナノチューブ
- プラズマ表面改質
- 官能基修飾 (親水性、撥水性など)
- 密着性 バイオ高分子の固定化
- プラズマ重合
- 低圧力マイクロ波放電を用いた表面プロセス
- マイクロ波プラズマについて
- マイクロ波プラズマ実験装置
- 表面波プラズマを用いた表面プロセスの例
- 体積波プラズマを用いた表面プロセスの例
- 大気圧プラズマを用いた表面プロセス
- 大気圧放電プラズマについて
- 誘電体バリア放電
- 大気圧プラズマジェット
- 誘電体バリア放電を用いた表面プロセスの例
- 大気圧プラズマジェットを用いた表面プロセスの例
- 表面評価法と測定例
- XPS
- AFM
- SEM/TEM
- ラマン分光
- XRD
- まとめと今後の課題
- 質疑応用・名刺交換
会場
受講料
- 1名様: 40,000円(税別) / 44,000円(税込)
- 複数名: 33,000円(税別) / 36,300円(税込)
複数名同時受講の割引特典について
- 2名で参加の場合、1名につき 7,350円割引
- 3名で参加の場合、1名につき 10,500円割引 (同一法人に限ります)