精密洗浄の技術動向と装置、材料選定のポイント

第1部 半導体洗浄の基礎と次世代半導体の洗浄課題、洗浄・乾燥の最新技術

(2024年7月26日 10:00〜12:00)

　半導体製造において、洗浄は品質や歩留まりを向上するために欠かすことができない工程です。その洗浄技術の基礎から次世代半導体の洗浄課題、最新洗浄技術までを本セミナーで解説します。 　まずは、半導体洗浄の装置や薬液種類に関する基礎的な内容を詳しく説明します。これにより、洗浄対象物や洗浄原理が理解できます。また洗浄後は、濡れたウェハ表面をデバイスに悪影響なく乾かす必要があります。乾燥は洗浄とセットとなる重要なプロセスであるため、乾燥工程にフォーカスを当て解説します。 　その後、次世代半導体の構造や材料の変化に伴う洗浄と乾燥課題に触れていきます。最先端半導体の洗浄が従来の半導体洗浄に比べ難易度が高い理由を解説し、最先端の洗浄技術を紹介します。 　本セミナーでは、「洗浄」と「乾燥」の2つのテーマに対する過去から最新にわたる技術トレンドを紹介します。

1. なぜ半導体洗浄が必要なのか
   1. 基本的な半導体製造プロセス
   2. 半導体製造おける洗浄の位置づけ
   3. 洗浄対象物
2. どのように半導体洗浄を行うか
   1. 洗浄装置の種類
   2. 洗浄薬液の種類
   3. 洗浄原理
3. 洗浄の技術トレンド
   1. 半導体と洗浄の歴史
   2. 従来の洗浄技術
4. 乾燥の技術トレンド
   1. 半導体と乾燥の歴史
   2. 従来の乾燥技術
5. 次世代半導体の洗浄課題
   1. 半導体デバイスのトレンド
   2. 洗浄の技術的課題
   3. 洗浄装置に求められる機能
6. 先端洗浄技術
   1. 最新の洗浄技術
   2. 最新の乾燥技術
   3. シミュレーション技術
7. まとめ
• 質疑応答

第2部 パーティクル洗浄に適した水系洗浄剤の開発動向と洗浄メカニズムの解説

(2024年7月26日 13:00〜14:00)

　パーティクルは製造工程や製品において影響を及ぼすため、パーティクルの洗浄による除去は重要な課題であり、近年さらにその重要性を増している。 　本講演では、パーティクル洗浄の概要、洗浄メカニズムを説明するとともに、パーティクル洗浄に適した水系洗浄剤の開発とその効果についても解説する。

1. 会社紹介
2. 洗浄について
3. パーティクル洗浄
4. パーティクル洗浄のメカニズム
5. パーティクル洗浄に対するトレンド
6. パーティクル除去用水系洗浄剤の開発と効果
7. まとめ
• 質疑応答

第3部 洗浄機内の流れと反応の考察と洗浄効果の評価方法

(2024年7月26日 14:10〜15:10)

　本講演では、枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機における水の流れを可視化観察動画・静止画と計算例で眺め、より効果的な洗浄に向けた全体像が直感で分かることを目指します。 　それを起点にして、洗浄効果を上げるための評価方法について説明して行きます。まとめでは、困ったときの対策について述べます。

1. 洗浄の4要素
   • 温度
   • 時間
   • 化学
   • 力学
2. 流れ、熱、拡散、反応
3. 流れの可視化観察 (身近な例の動画)
4. 枚葉式洗浄機
   1. 水の流れ
      • 観察動画と計算例
      • 回転数
      • ノズルスイング
   2. 化学反応の例 (酸化膜エッチング速度の数値解析事例)
5. バッチ式洗浄機
   1. 水の流れ (観察動画と計算例。水の循環は無駄)
   2. 水流を最適化 (入口と出口を変えて循環流を抑制した例)
6. 洗浄の評価方法
   1. 実験・計算を用いた開発手順の例
   2. 試料の例と表面観察方法
7. まとめ:困った時の視点と対策
• 質疑応答

第4部 超音波洗浄技術と精密洗浄のポイント

(2024年7月26日 15:20〜16:20)

　半導体、FPDから金属部品の洗浄において幅広く使用されている超音波洗浄では周波数、洗浄液、リンス、乾燥など非常に多くの検討事項が存在する。本講演では、超音波および洗浄機の種類や特徴および精密洗浄を行う際の注意事項やポイントなど、基本的な内容を紹介する。

1. 会社紹介
2. 洗浄の種類
3. 超音波の基礎
4. 超音波洗浄機の種類と特徴
5. 精密洗浄のポイント
6. 精密洗浄および評価事例紹介
7. まとめ
• 質疑応答