本セミナーでは、溶媒分散系における化学修飾法を用いるシリカナノ粒子の合成と高機能化について、古典的な手法から最先端の技術まで概説いたします。
また、書面上では説明しづらい、演者が長い年月をかけて習得した合成 (修飾) 時の勘所についてもできる限りお伝えいたします。
日時
- 2024年6月13日 13時00分〜 2024年6月13日 17時00分
開催予定
プログラム
シリカナノ粒子 (コロイダルシリカ) とは、二酸化ケイ素から構成される数十〜数百 nm の球状粒子のことであり、粒径制御が容易で光学的に透明であり、絶縁性や機械的強度に優れているため、基礎研究から産業界まで広く利用されています。 本講演では、シリカナノ粒子の合成およびその化学修飾 (化学吸着および物理吸着) について古典的な手法から最先端の技術まで概説します。単なる技術の紹介にとどまらず、それら合成 (修飾) 法の設計指針にまで踏み込んでお話しします。また、書面上では説明しづらい、講演者が長い年月をかけて習得したシリカナノ粒子の合成 (修飾) 時の勘所についても、できる限りお伝えします。
- 始めに
- ナノ粒子の科学
- シリカナノ粒子の性質
- ナノ粒子合成の科学 (ラメールのダイヤグラム)
- ナノ粒子分散の科学 (DLVO理論)
- 一般的なシリカナノ粒子の合成法と粒径制御
- ストーバー法
- 逆ミセル法
- シード媒介成長法
- 内部に空隙部を有するシリカナノ粒子の合成法
- メソポーラスシリカナノ粒子
- ラトル型シリカナノ粒子
- 中空シリカナノ粒子
- 化学吸着によるシリカナノ粒子の機能化
- ストーバー法 (内部修飾)
- 逆ミセル法 (内部修飾)
- シランカップリング剤による修飾 (表面修飾)
- 高分子による修飾 (表面修飾)
- 物理吸着によるシリカナノ粒子の機能化
- ストーバー法 (内部修飾)
- 逆ミセル法 (内部修飾)
- シード媒介成長法 (表面修飾)
- 高分子による修飾 (表面修飾)
- 再沈殿法 (表面修飾)
- 終わりに
受講料
- 1名様: 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 複数名: 22,500円(税別) / 24,750円(税込)
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- R&D支援センターからの案内を希望する方
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- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 67,500円(税別) / 74,250円(税込)
- R&D支援センターからの案内を希望しない方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 99,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 148,500円(税込)
ライブ配信セミナーについて
- 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
- お申し込み前に、 視聴環境 と テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
- 開催日前に、接続先URL、ミーティングID、パスワードを別途ご連絡いたします。
- セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
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- タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
- ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
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万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。