本セミナーでは、ナノインプリントリソグラフィ (Nanoimprint Lithography: NIL) の基礎、要素技術、実用例を解説いたします。
また、ナノインプリントの方式、熱ナノインプリント、UVナノインプリント、ロールトゥロールナノインプリントについて説明した後、実用例である反射防止効果のあるモスアイ構造フィルムの作製方法と応用例について紹介いたします。
日時
- 2024年7月29日 13時00分〜 2024年7月29日 16時30分
開催予定
プログラム
ナノインプリントリソグラフィ (Nanoimprint Lithography: NIL) は、ナノオーダーの金型転写技術であり、簡単な原理でナノパターンが得られる利点がある。また、最近は半導体露光装置への適用も期待されており、メタサーフェスやAR/VRグラスへの応用も進んでいる。このように、NILは最先端の高付加価値の製品をリーゾナブルな価格で作製することができる。 本講演では、NILの基礎と要素技術を紹介した後、実用例等を紹介することで、今後の新製品のヒントが得られると考えている。また、ロールトゥロール (RTR) NILの説明も行い、反射防止構造フィルムの製造例なども紹介する。こちらもフィルムベースの新製品のヒントが得られると考えている。また、近年活発化しているメタサーフェスおよびAR/MRグラス等の状況も概説する。
- はじめに
- ナノインプリントリソグラフィの現状
- ナノインプリントリソグラフィの実用例
- ナノインプリントの基礎
- ナノインプリントの歴史
- ナノインプリントの要素技術
- ナノインプリントの各種方式
- ナノインプリントの位置づけ
- ナノインプリントの応用技術
- ナノトランスファープロセス
- 金属パターン転写
- ロールトゥロール (RTR) ナノインプリント
- RTR NILの基礎
- 反射防止構造 (モスアイ構造)
- モスアイ構造の作製方法
- モスアイ構造の転写方法
- モスアイ構造の応用例
- 将来展望
- メタサーフェス
- AR/MR グラス
- まとめ
- 質疑応答
会場
受講料
- 1名様: 42,700円(税別) / 46,970円(税込)
- 複数名: 22,500円(税別) / 24,750円(税込)
複数名受講割引
- 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 22,500円(税別) / 24,750円(税込) で受講いただけます。
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 42,700円(税別) / 46,970円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 67,500円(税別) / 74,250円(税込)
- 同一法人内 (グループ会社でも可) による複数名同時申込みのみ適用いたします。
- 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
- 請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」とご記入ください。 - 他の割引は併用できません。
- サイエンス&テクノロジー社の「2名同時申込みで1名分無料」価格を適用しています。
アカデミー割引
教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。
- 1名様あたり 10,000円(税別) / 11,000円(税込)
- 企業に属している方(出向または派遣の方も含む)は、対象外です。
- お申込み者が大学所属名でも企業名義でお支払いの場合、対象外です。