各種パワーデバイスの特徴・技術動向と今後の課題

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本セミナーでは、Siパワーデバイスの現状からワイドギャップ半導体パワーデバイスの開発動向や課題まで分かりやすく解説いたします。

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プログラム

パワーエレクトロニクス産業を根底から支えているパワーデバイスは、現状主にSiを用いて製造されています。今後も、Siパワーデバイスが主流なのは間違いありません。Siパワーデバイスで主導権を維持するには、製造ラインの300mm化が必須ですが、日本はすでに大きく出遅れています。一方、Siパワーデバイスの性能向上限界説が聞かれるようになり、次世代パワーデバイス用材料として、ワイドギャップ半導体が期待されています。ワイドギャップ半導体パワーデバイスの量産化には多くの課題があるものの、海外メーカは積極的に市場投入を進めています。日本は、ここでも海外メーカに後れを取っています。  本セミナーでは、Siおよびワイドギャップ半導体パワーデバイスの技術開発動向と今後の課題について詳細に解説します。

  1. パワーエレクトロニクスおよびパワーデバイス業界動向
    1. パワーエレクトロニクスへの期待
    2. パワーデバイスの適用分野
    3. パワーデバイスによる電力変換
    4. パワーデバイスの高性能化
  2. パワーチップおよびパワーモジュールの構造
    1. パワーチップの構造
    2. パワーモジュールの構造
    3. パワーチップおよびパワーモジュールの製造プロセス
  3. Siおよびワイドギャップ半導体パワーデバイスの技術開発
    1. Siパワーデバイスの技術開発
    2. SiCパワーデバイスの技術開発
    3. GaNパワーデバイスの技術開発
    4. 酸化ガリウムパワーデバイスの技術開発
  4. 電子デバイス盛衰の歴史とパワーデバイスの将来展望
    1. 日本の電子デバイス盛衰の歴史
    2. 世界のパワーデバイスの状況
    3. 日本のパワーデバイスの将来展望
  5. まとめ

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