第1部 リソグラフィの微細化とEUVリソグラフィ用フォトレジストの開発
(2024年1月24日 10:30〜12:00)
昨今、私たちは新たなデジタル社会と対面している。世の中で頻繁にその言葉を耳にするIOT、AI、Soceity5.0等の発展に対し、さらなるデバイスの高速化、大容量化、省電力化が求められている。そのために不可欠なのがリソグラフィの微細化であり、その実現には、フォトレジスト材料の開発が必須である。究極の微細化であるEUVリソグラフィ用フォトレジスト材料の開発に関し、その歴史、背景を交え解説する。
- 世の中を取り巻く環境の変化
- アナログからデジタルへ、電子デバイスの高速化、大容量化、省電力、AI活用の例
- 昨今話題の日本の半導体産業への取り組み
- リソグラフィ微細化の歴史
- リソグラフィとは。なぜフォトレジストが必要か。
- 微細化を牽引するムーアの法則と露光波長短波化によるリソグラフィ微細化の歴史
- EUVリソグラフィ実用化困難時代に生まれたArF液浸リソグラフィの延命の切り札、富士フイルムによるNegative-tone imaging (NTI) 技術の発明
- EUVリソグラフィ
- EUVリソグラフィの歴史、実用化に必要な3つの課題とその重要性の推移
- 最初にたちはだかった大きな課題、アウトガス問題
- 国家プロジェクトにて対応したアウトガス問題解決 (EIDEC成果)
- 国家プロジェクトにて対応した露光機課題や新規材料開発 (メタルレジスト) の紹介
- EUVレジスト特有の課題、ストカスティック因子に関して
- リソグラフィ工程におけるストカスティック因子解析
- フォトンストカスティックとケミカルストカスティックの解説と解決手段例
第2部 EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術
(2024年1月24日 13:00〜14:30)
- EUVLの概要
- EUVLの概要
- EUVL用レジスト
- アウトガス評価技術
- EUVLレジストのアウトガス評価方法
- EUVLレジストのアウトガス評価装置
- EUVレジストの評価技術
- EUV透過率測定
- ナノパーティクル添加レジストの高感度化
- 屈折率nk測定
- EUV2光束干渉露光
- EUVメタルレジストの評価技術
- メタルレジストの概要
- EUVメタルレジストのアウトガス分析
- EUVメタルレジストの問題点
- EUVフォトレジストと電子線レジストの感度
第3部 放射線化学に基づいたメタルレジストの反応機構と課題
(2024年1月24日 14:45〜16:15)
EUVリソグラフィにおいて、次世代サブ10 nmHP用 (オングストロームノード用) として期待されるメタル含有レジストの反応機構と課題について解説します。
- レジストとは
- 次世代レジストの課題
- レジストの像形成機構
- なぜ、メタルが必要か
- 光吸収と光電子放出
- 二次電子と減速過程と熱化
- 熱化電子の還元作用
- 放射線化学反応
- 溶解度変化のメカニズム
- 課題
- まとめ
複数名同時受講割引について
- 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 50,000円(税別) / 55,000円(税込) で受講いただけます。
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 55,000円(税別) / 60,500円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)
- 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
- 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
- 他の割引は併用できません。
アカデミック割引
- 1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)
日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。
- 学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院、短期大学、附属病院、高等専門学校および各種学校の教員、生徒
- 病院などの医療機関・医療関連機関に勤務する医療従事者
- 文部科学省、経済産業省が設置した独立行政法人に勤務する研究者。理化学研究所、産業技術総合研究所など
- 公設試験研究機関。地方公共団体に置かれる試験所、研究センター、技術センターなどの機関で、試験研究および企業支援に関する業務に従事する方
- 支払名義が企業の場合は対象外とさせていただきます。
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