半導体デバイス入門講座

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本セミナーでは、半導体の基礎をはじめ、集積回路の最も基本となるMOSトランジスタの構造から動作原理、微細化と作製方法などを学び、現在・未来の集積化の動向まで分かりやすく解説いたします。

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プログラム

半導体産業は、IT機器を支える基幹産業としてAI/DX社会実現の主導的役割を果たすと考えられるようになり、経済安全保障の観点からも高い注目が集まっている。この半導体集積回路の基本となるデバイスが、MOSトランジスタであることから、その進化の道筋を追うことで、現在および将来の集積回路の方向性を理解することができる。  本セミナーでは、半導体の基本的性質から始めて、MOSトランジスタの構造と動作原理、微細化の基本的考え方、作製プロセスの基礎、性能向上のための工夫、将来の技術発展の方向性について、最新の研究開発状況にも触れながら、解説する。

  1. 半導体産業の重要性
    1. 半導体の応用分野と将来性
    2. 半導体製品の種類
  2. 半導体の基礎
    1. 半導体の特徴
    2. 半導体中の電気伝導と移動度
    3. n型半導体とp型半導体
    4. pn接合と空乏層
  3. MOSトランジスタの動作原理
    1. MOSトランジスタの動作原理
    2. MOS構造のバンド図
    3. 反転状態と閾値電圧
    4. MOSトランジスタの電流 – 電圧特性
  4. MOSトランジスタを用いた論理計算
  5. MOSトランジスタの微細化とムーアの法則
    1. 集積回路のコンセプトとムーアの法則
    2. MOSトランジスタのスケーリング則
  6. MOSトランジスタの作製方法
  7. MOSトランジスタ微細化の制限要因と改良技術
    1. ゲート絶縁膜の薄膜化限界とhigh k絶縁膜
    2. 短チャネル効果と立体構造トランジスタ
    3. チャネル移動度向上技術
  8. MOSトランジスタ高集積化の現状と今後の動向
    1. テクノロジーノードとロードマップ
    2. 三次元集積化

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