本セミナーでは、局所クリーン化の基礎から新世代局所クリーン化生産システムの背景、原理、導入事例を詳解いたします。
従来の歩留まり向上対策は、行き着くところまで来ているにもかかわらず、激しいマーケット内競争で製造部門は厳しいコストダウンを強いられている。幸いなことに、生産方式自体を革新し、従来の労苦を不要な物とする、新世代の局所クリーン化技術が誕生している。 すでに半導体前工程ではパーティクル遮断型の新世代局所クリーン化生産システムが開発され、パーティクル起因歩留まりが大きく改善されると同時に、工場空調エネルギーの大幅削減が実現されている。また、副次効果として、従来困難を伴った自動化が実際極めて容易になり、工場生産性の飛躍的向上を果たした。これらのメリットは、半導体後工程・FPD・精密機械組立実装の広い産業分野において今後重要視されてくる。また、局所クリーン化の次世代型であるガス遮断型方式を導入することで、水分・酸素・VOCなどの体系的ガス管理が可能になり、従来不可能であった100%の良品率を超えた「完全均一品質生産」を指向することが可能になる。またその環境分離技術としての有用性から、様々な環境対策、CO2削減への強力なソリューションともなってくる。 本講演では、その背景から原理、そして導入事例を解説し、さらに、今後の様々な産業への導入効果についても言及するとともに、次世代型の具体的開発事例 (ミニマルファブシステム) についても紹介する。