導電性高分子の高導電化に向けたドーピングプロセス・キャリア伝導機構と応用技術

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本セミナーでは、導電性高分子のドーピング方法からキャリア伝導機構の最新動向や伝導特性向上の取り組みなど詳解いたします。

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導電性高分子は軽量安価でフレキシブルな電子材料としてIoT社会での活躍が期待され、ドーピング下の電気伝導に関心が集まっている。しかし高分子薄膜は、高分子が配向した結晶領域を配向が乱れた境界領域が取り囲む複雑な構造からなり、電気伝導モデルの構築が遅れ、素子性能効率向上への指針が明らかになっていない。  本セミナーでは、ドーピング時に現れる電荷キャリアの特徴、ドーピングの方法の基礎について触れた後、ドーピング濃度上昇によって変化していくキャリア伝導機構に関する最近の研究と、伝導特性向上に向けた取り組み、さらに電極材料・熱電素子応用への展望について述べる。

  1. ドーピングによって発生する電荷キャリア
  2. ドーピングの方法
    1. 化学ドーピング
    2. 電気化学ドーピング
    3. ドーピング量の決定
  3. 導電性高分子薄膜の構造
    1. 結晶領域・境界領域・タイ分子
    2. 主鎖配向制御
  4. キャリア伝導機構
    1. 電気伝導の基礎
    2. 最近接ホッピング
    3. 可変領域ホッピング
    4. 輸送エネルギーモデル
    5. 弱局在
    6. 金属的伝導
  5. 応用技術
    1. 半導体応用
    2. 透明電極
    3. 熱電素子

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