半導体表面の汚れを原子レベルで洗うには、 (1) 薬液を選び、 (2) 表面に付きまとう水の層 (境界層) の下 (奥) で反応 させ、 (3) 取れた汚れを表面に戻さない工夫が大切であり、 (4) 工程全体を水流が支えています。
そこで、本セミナーでは、薬液について 選び方を説明した上で、狭い溝と深い孔を洗うための薬液量が意外なほど多いことを示します。水流については、湿式洗浄の 実機 (枚葉式装置とバッチ式装置) の実例と改善例を可視化観察動画と数値計算例で具体的に解説します。超音波によって洗 浄槽内に生まれる水と気泡の動きも、動画で紹介します。以上をまとめた上で、トラブル対策の視点について説明します。
- 洗う理由:汚れは何?いつ、どこからなぜやって来る?
- 一般の洗浄
- 半導体の洗浄に特有のこと
- 先端技術情報源
- 半導体洗浄の基礎現象 (薬液と流れの効果)
- 表面の現象とプロセス
- 流れ、熱、拡散、反応
- 装置内流れの種類
- 流れの可視化観察
- 洗浄機内の流れと反応
- 枚葉式洗浄機 (200mmΦウエハ用実機)
- 水の流れ (観察動画と計算例)
- 化学反応の例
- バッチ式洗浄機 (300mmΦウエハ用実機)
- 水の流れ (観察動画と計算例)
- 水流の最適化 (変えてみた例)
- 超音波の働き
- まとめ:困った時の視点と対策
- 洗えない時、洗いにくい時の対策選択
- 微細空間 (溝・孔) が生み出す諸課題と洗浄の視点
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