遷移金属ダイカルコゲナイド (TMDC) の物性・合成・薄膜形成とデバイス応用

再開催を依頼する / 関連するセミナー・出版物を探す
オンライン 開催

近年、先端トランジスタをはじめ、様々なデバイス応用を見据えて世界的に研究が活発化している遷移金属ダイカルコゲナイド (Transition Metal Dichalcogenide ; TMDC)。
本セミナーでは、TMDCが期待されている背景から、分類・構造・物性、合成・薄膜形成、電界効果型トランジスタ・トンネルトランジスタ・メモリ等への応用、デバイス応用のためのプロセス技術、最新研究動向までを解説いたします。

日時

中止

プログラム

二次元層状物質の代表格である遷移金属ダイカルコゲナイド (Transition Metal Dichalcogenide ; TMDC) は、二次元性を舞台とした基礎物性研究の対象としてだけでなく、その物性を生かしたデバイス応用に至るまで、幅広い研究者の興味を引いている。特に近年では、Si CMOSトランジスタの微細化限界を打破し得る材料として、CMOS微細化を牽引する世界的大企業においても精力的に研究が進められている。  本セミナーでは、TMDCの物性、合成から、デバイス応用、更には、デバイス化のための要素プロセス技術までを含めて解説する。

  1. 序論
    1. TMDCへの期待
  2. TMDCの物性
    1. 分類
    2. 結晶構造
    3. バンド構造
    4. 機械的特性
    5. 光学特性
    6. 電気特性
  3. TMDCの合成、薄膜形成
    1. バルク単結晶成長
    2. 機械的剥離法による薄膜形成
    3. 固体原料による化学気相成長
    4. アルカリ金属添加による大粒径化
    5. 気体原料による化学気相成長
    6. その他形成手法
      • 原子層堆積法
      • スパッタ法
      • 金属酸化物硫化法 等
    7. TMDCヘテロ構造の形成
  4. デバイス応用
    1. 電界効果型トランジスタ
    2. トンネルトランジスタ
    3. 光デバイス
    4. その他デバイス
      • センサ
      • メモリ
      • ニューロモルフィック
  5. デバイス化要素プロセス技術
    1. 低抵抗コンタクト形成技術
    2. 界面パッシベーション技術
    3. ドーピング技術
  6. おわりに

受講料

複数名受講割引

アカデミー割引

教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。

ライブ配信セミナーについて