リソグラフィの基礎およびレジスト材料とその高性能化

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本セミナーでは、レジストの基礎からリソグラフィープロセスの最適化方法までを分かりやすく解説いたします。

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フォトレジストを用いるリソグラフィーは、半導体、ディスプレイ、MEMSなど様々なデバイス製造に必須の技術であり、材料・装置・プロセスの各面から目覚ましい進歩を遂げている。  本講座ではレジスト材料を開発、製造、使用する方々、リソグラフィープロセスでトラブルを抱えている方々を対象に、材料設計、プロセスの最適化、各種トラブル解決策を中心に丁寧に解説します。特に研究開発、デバイス製造、市場開拓といった実務上での取り組み方について、実例を交えて解説します。

  1. リソグラフィの基礎
    1. リソグラフィーとは
    2. 露光システムとリソグラフィー装置の変遷
    3. 解像度向上技術
  2. レジスト材料とその高性能化
    1. パターンニング用レジスト材料 (総論)
    2. G線、I線用レジスト
    3. KrF用レジスト
    4. ArFおよびArF液浸用レジスト
    5. EUV用レジスト
    6. 後工程用のレジスト
  3. レジスト製造技術と品質管理
    1. レジスト製造技術
    2. レジストの性能安定化技術
    3. 品質管理 – その項目と管理方法
  4. レジスト材料の評価技術
    1. 基本性能の評価
    2. 実用性能の評価
    3. シミュレーション技術
  5. トラブルシューティングと顧客対応の基本
    1. トラブルの分類
    2. トラブルの原因と評価方法
    3. トラブル発生時の顧客対応の例
    4. トラブルシューティングの重要課題
    5. nm以下のリソグラフィー技術と材料
    6. マルチパターンニング技術
    7. DSA技術とその材料
    8. ナノインプリント技術
    9. 今後のリソグラフィー技術と材料

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