レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策

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本セミナーでは、レジストの基礎からリソグラフィープロセスの最適化方法までを分かりやすく解説いたします。

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プログラム

  1. リソグラフィの基礎
    1. リソグラフィーとは
    2. 露光システムとリソグラフィー装置の変遷
  2. レジスト材料とその高性能化
    1. パターンニング用レジスト材料 (総論)
    2. G線、i線用レジスト
    3. KrF用レジスト
    4. ArFおよびArF液浸用レジスト
    5. EUV用レジスト
  3. レジスト製造技術と品質管理
    1. レジスト製造技術
    2. レジストの性能安定化技術
    3. 品質管理 – その項目と方法
  4. レジスト材料の評価技術
    1. 性能評価
    2. 品質評価
    3. シミュレーション技術
  5. レジスト製造、および使用現場におけるトラブル対応
    1. 種々のトラブルとその解決策 (材料面から)
    2. 種々のトラブルとその解決策 (プロセス面から)
    3. 顧客対応の方法
  6. 20nm以下のリソグラフィー技術
    1. ダブルパターンニング技術
    2. DSA技術とその材料
    3. ナノインプリント技術
    4. 今後のリソグラフィー技術

受講料

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