近年、半導体デバイスに進化はものすごいスピードを進んでいます。このセミナーは半導体デバイスの物理的洗浄に関して説明を行います。セミナーではできるだけ工学基礎 (半導体の基礎の基礎、流体力学、電気磁気学、AI) から説明を行い、現在半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から丁寧に説明します。
また、講演者が専門としている半導体デバイス製造時の静電気障害の対策についても紹介し、それを防止するためのAI技術についても述べます。半導体デバイス製造プロセスにどのようにAIが用いることができるがヒントになると幸いです。基礎的なことからお話しますので、半導体デバイス洗浄に関わる3, 4年の方や半導体デバイス洗浄にビジネスをお探しの方に最適かと思います。
- 半導体デバイスの物理的洗浄の必要性
- 半導体の基礎の基礎
- 半導体製造プロセス
- 半導体デバイス製造プロセスにおける洗浄の必要性
- 化学的洗浄と物理的洗浄
- 水流を利用した洗浄について
- 流体力学の基礎
- 高圧スプレー洗浄
- 二流体スプレー洗浄
- 超音波洗浄スプレー洗浄
- ブラシ洗浄
- 次世代の物理的洗浄技術
- スプレー洗浄時の静電気障害
- 静電気の基礎
- 半導体デバイスの洗浄の静電気障害
- スプレー時に発生する静電気と静電気障害のメカニズム
- AIを用いた半導体デバイスの生産技術
- AIの基礎
- 半導体製造に用いられるAI
- 静電気障害防止を例にしたAIの活用法
案内割引・複数名同時申込割引について
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- 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
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