今や半導体は我々の生活の上でなくてはならないものである。最近では半導体そのものが戦略物資となるほどに重要である。 (昨今の台湾領土問題についても、半導体技術の奪い合いとも言われている。) このセミナーは半導体デバイスの物理的洗浄に関して説明を行います。セミナーではできるだけ工学基礎 (半導体の基礎の基礎、流体力学、電気磁気学、AI) も説明を行い、現在半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から丁寧に説明します。
また講演者が専門としている半導体デバイス製造時の静電気障害の対策についても紹介し、それを防止するためのAI技術についても述べます。半導体デバイス製造プロセスにどのようにAIが用いることができるがヒントになると幸いです。基礎的なことからお話しますので、半導体デバイス洗浄に関わる数年の方や半導体デバイス洗浄にビジネスをお探しの方に最適かと思います。講義後、質疑応答の時間以外にもメールにてご質問にもお答え致します。
- 半導体デバイスのマーケットの動向と業界動向
- 半導体デバイスの物理的洗浄の必要性
- 電気の基礎
- 半導体の基礎
- 半導体製造プロセス
- 半導体デバイス製造プロセスにおける洗浄の必要性
- 化学的洗浄
- 物理的洗浄
- 水流を利用した洗浄について
- 流体力学の基礎
- 高圧スプレー洗浄
- 二流体スプレー洗浄
- 超音波洗浄スプレー洗浄
- ブラシ洗浄
- 次世代の物理的洗浄技術
- スプレー洗浄時の静電気障害
- 静電気の基礎
- 半導体デバイスの洗浄の静電気障害
- スプレー時に発生する静電気と静電気障害のメカニズム
- AIを用いた半導体デバイスの生産技術
- AIの基礎
- 半導体製造に用いられるAI
- 静電気障害防止を例にしたAIの活用法
案内割引・複数名同時申込割引について
シーエムシーリサーチからの案内をご希望の方は、割引特典を受けられます。
また、2名様以上同時申込で全員案内登録をしていただいた場合、1名様あたり半額の 18,000円(税別) / 19,800円(税込)となります。
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ライブ配信セミナーについて
- 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
- お申し込み前に、 視聴環境 と テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
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- タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
- ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
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