次世代半導体パッケージ用材料の要求特性と開発動向

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プログラム

第1部 次世代半導体パッケージ用層間絶縁材料の要求特性と開発方針

(2023年5月19日 11:00〜12:10)

 本講座では、半導体パッケージのロードマップを軸に層間絶縁材料の開発方針などに触れていく。特に半導体パッケージが大型化した際に求められる低反りや低伝送損失などの物性にフォーカスし、その解決方法を説明する。さらに、各種ABFの説明や物性などの紹介も行う。

  1. 味の素株式会社の説明
    1. 味の素株式会社の概要
    2. 味の素株式会社が電子材料に参入したきっかけ
  2. 半導体パッケージのロードマップと開発トレンド
  3. 大型パッケージ基板用層間絶縁材への要求物性
    1. 低反り
    2. 低伝送損失
    3. 微細配線形成
  4. 次世代パッケージ用ABF (Ajinomoto Buildup film) の紹介
    1. ABFの構成
    2. ABFの硬化系
    3. ABFの物性
    4. Nano filler ABFの紹介
    5. Nano filler ABFの物性
    6. Molding Compoundの紹介
    7. Molding Compoundの物性
  5. まとめ

第2部 次世代半導体パッケージ向け封止材用エポキシ樹脂の高機能化

(2023年5月19日 13:00〜14:30)

 封止材料の様々な要求特性に対して、弊社のエポキシ樹脂と共に、そのアプローチ方法を紹介する。

  1. 会社紹介
  2. エポキシ樹脂とは
  3. 封止材向け機能性エポキシ樹脂
    1. 高Tg
    2. 耐熱分解性
    3. 高熱伝導
    4. 低吸水
    5. 低誘電
    6. 柔軟性
    7. 透明性
    8. 高電気信頼性 (低塩素)
  4. 最後に

第3部 3次元半導体パッケージに向けた耐熱樹脂材料への要求特性と開発動向

(2023年5月19日 14:45〜16:15)

 半導体の高機能化にともない、半導体チップサイズの巨大化に伴うチップレット化とそれを効率よくパッケージ化するための3次元積層化などのトレンドに対して、必要となる材料の開発トレンドについて紹介する。

  1. 半導体の技術開発トレンド
    1. チップレット化
    2. 3次元積層化
    3. 次元半導体パッケージ関連材料
    4. 半導体実装材料
    5. 熱伝導性材料
    6. 高精細感光性耐熱材料
    7. 低誘電・低Tanδ材料

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