パワーデバイスの現状と将来展望

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本セミナーでは、Siパワーデバイスの現状からワイドギャップ半導体パワーデバイスの開発動向や課題まで分かりやすく解説いたします。

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パワーエレクトロニクス産業を根底から支えているパワーデバイスは、現状90%以上がSiを用いて製造されています。今後も、Siパワーデバイスが主流なのは間違いありません。Siパワーデバイスで主導権を維持するには、製造ラインの300mm化が必須ですが、日本はすでに大きく出遅れています。一方、Siパワーデバイス性能向上限界説が聞かれるようになり、次世代パワーデバイス用材料として、ワイドギャップ半導体が期待されています。しかしながら、結晶品質がSiと比べて劣っている、製造プロセスが確立していない、信頼性に不安がある、コストが高い等々、量産化には多くの課題があります。  本セミナーでは、パワーデバイス進化の歴史と将来展望およびワイドギャップ半導体パワーデバイスの現状と課題について解説します。

  1. パワーエレクトロニクスおよびパワーデバイスへの期待
    1. パワーエレクトロニクスへの期待
    2. パワーデバイスの適用分野
    3. パワーデバイスによる電力変換
    4. パワーデバイスの高性能化
  2. パワーチップおよびパワーモジュールの構造
    1. パワーチップの構造
    2. パワーモジュールの構造
    3. パワーデバイスの製造プロセス
  3. Siおよびワイドギャップ半導体パワーデバイスの技術開発
    1. Siパワーデバイスの技術開発
    2. SiCパワーデバイスの技術開発
    3. GaNパワーデバイスの技術開発
    4. 酸化ガリウムパワーデバイスの技術開発
  4. 電子デバイス盛衰の歴史とパワーデバイスの将来展望
    1. 日本の電子デバイス盛衰の歴史
    2. 世界のパワーデバイスの状況
    3. 日本のパワーデバイスの将来展望
  5. まとめ

受講料

  • 1名様: 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
  • 複数名: 22,500円(税別) / 24,750円(税込)

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    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
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    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 148,500円(税込)

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