本セミナーでは、半導体表面におけるウェットプロセス、及び、関連する表面計測法について、基礎から先端研究事例までを解説・紹介いたします。
今日、半導体デバイスの集積化・微細化は極限レベルに達しつつあります。高い性能や信頼性を持つ半導体デバイスを製造し続けるためには、基板となる半導体の表面状態 (汚染や構造) を原子・分子レベルで高度に制御する必要があります。純水や薬液をベースとしたウェット技術は、高品質の半導体表面を安定的に実現する上で、欠かすことができない基盤技術であり、その重要性は益々増しています。 本講義では、半導体表面が関わる固液界面現象 (洗浄、研磨、濡れ特性) の特性を極微レベルで調査するための表面ナノ計測法について解説します。特に、プローブ顕微鏡法と電子分光法について、基礎から応用までじっくり解説します。興味がある方は是非、ご参加ください。