フォトレジスト材料の基本的な構成構造、材料設計および高感度化

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本セミナーでは、高分子・低分子化合物のレジスト材料に関する基礎や評価方法を解説いたします。

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プログラム

フォトレジスト材料は、化学増幅型システムを基盤として、露光システムの変遷と共に進化をしてきた。その進化の変遷について、高分子や低分子を用いたレジスト材料の開発について解説する。さらに、KrF、ArF、EB、およびEUVレジスト材料の合成例と分子設計指針について基礎から応用までを解説する。  また、レジスト材料の基礎的な評価方法を解説し、新規なレジスト材料の開発方法について解説しながら、最新のレジスト材料としてEUVレジスト材料の開発方法について解説する。

  1. レジスト材料
    1. 原理
    2. 合成例
    3. 最新の化学増幅型
  2. ポジ型レジスト材料
    1. 材料的な特性
    2. 主な応用・用途
  3. ネガ型レジスト材料
    1. 材料的な特性
    2. 主な応用・用途
  4. 高分子レジスト材料と低分子レジスト
    1. 材料的な特性
    2. 主な応用・用途
  5. レジスト材料の評価方法と開発方法の実例
    1. レジスト材料の評価項目、評価手法について
    2. レジスト材料の評価方法と開発例
  6. 最新型レジスト材料
    1. メタルレジスト
    2. EB、EUV用レジスト材料

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