半導体洗浄技術の要点、工夫と効果の確かめ方

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本セミナーでは、半導体洗浄の基礎とポイント、評価について解説いたします。

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プログラム

半導体洗浄に初めて取組む技術者 (&その指導をする方) を想定しています。「半導体のキレイとは何か」を見直し、洗浄の基礎となる現象を理解して、実際の洗浄装置の水と気泡の動きを動画と計算結果で眺めると、要点が直感的に見えてきます。そして、しっかり洗うために境界層を崩す理由とそのための物理的・化学的取扱いを学びます。洗浄の要点が掴み切れない、うまく洗いたいが何となく心配、という方にもお薦めです。

  1. 半導体の洗浄の必要性
    • 汚染の由来と原因
  2. 洗浄の4要素
    • 「温度、時間、化学、力学」の意味と比重
    • 力学が土台
  3. 半導体洗浄に特有のこと
    • 洗浄により実現したい表面
  4. 半導体洗浄の基礎現象
    • 汚れを取り去る手法の原理
      • 脱離
      • 引き剥がし
      • 流れ
      • 拡散
    • 装置内の流れの分類
      • 完全混合
      • 押出流れ
      • 境界層
    • 身近な装置内の流れの例【動画】
  5. 洗浄機内の流れと反応
    1. 枚葉式洗浄機
      • 一枚ずつ洗う利点
      • ウエハ回転による水の動き、水膜の厚さ【動画】
      • ノズル・スィングの様々な役割【動画】
      • 数値計算で化学反応速度も正確にわかる
    2. バッチ式洗浄機
      • まとめて洗う利点と欠点
      • 水を直角に噴出させるノズル【動画】
      • 排出口を広げて水循環を抑制【動画】
      • ウエハ出入れ操作と表面汚れの動き【動画】
    3. 超音波洗浄
      • 表面を音波で揺する利点と欠点
      • 超音波による水と気泡の加速【動画】
  6. 洗浄効果の調べ方
    • 流れの可視化観察と数値計算 (トレーサーの軌跡)
    • 付着微粒子の除去率
    • 微粒子と金属汚染の測定法
  7. まとめ&高清浄面を得る方法
    • 要所に薬液を届け、汚染物を持ち去る。
    • そのためには、境界層を崩す。または、境界層内を素早く動かす。

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