プラズマの生成、制御、計測技術とプロセスへの応用

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本セミナーでは、プラズマの基礎から解説し、プラズマの各種生成法、現象や反応の理解、モニタリングまで、所望のプラズマプロセスを実現するための要素技術を解説いたします。

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プログラム

本講座では、半導体製造プロセスなどでよく用いられる低圧力プロセス用プラズマを念頭に、プラズマの生成・制御を行うための基礎とともに、プラズマに接した固体表面で起こるプラズマ・表面相互作用の基礎を取り上げ、応用例などを通じて、プラズマ材料プロセスの理解を深める。またプロセス中のプラズマの状態をモニタするためのプラズマ計測法についても紹介する。

  1. プラズマ生成
    1. プラズマの構成粒子
    2. プラズマの電位とシース形成
    3. 荷電粒子およびラジカルの生成と維持
    4. プラズマの各種生成法
      • 直流放電
      • 静電結合型高周波プラズマ
      • 誘導結合型高周波プラズマ
      • マイクロ波プラズマ
  2. プラズマのプロセスへの応用
    1. プロセスにおけるプラズマの役割
    2. プラズマに曝された表面での現象
      • 堆積
      • エッチング
      • スパッタリング
      • 注入
    3. 実際のプロセス例
  3. プラズマ計測
    1. 電気的手法
      • ラングミュアプローブ
    2. 波動的手法
      • 表面波プローブ (プラズマ吸収プローブ)
    3. 光学的手法
      • 発光分光法
      • アクチノメトリ法
      • 吸収分光法
    4. 粒子的手法
      • 質量分析法
      • 出現質量分析法

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