半導体洗浄の工学的基礎と要点、トラブル対策の視点

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本セミナーでは、半導体製造における枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れについて可視化観察例等を流れの特徴と問題点を考察を踏まえながら解説いたします。

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プログラム

半導体洗浄の基礎現象から困った時の視点と対策まで説明します。洗浄とは何のために何をどうすることか?「清浄・きれい」の意味は何か?を改めて考えると、意外なほど工程と現象が見えて来ます。  ここでは、簡単な流れの例を動画で見て基礎現象の感覚をつかみ、湿式洗浄の代表的装置 (枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機) の流れを可視化観察動画と計算例で解説します。超音波の効果についても動画を見るとイメージが湧いて来ます。まとめでは、足元をすくわれた時の視点と対策を簡潔に説明します。化学工学の基礎と応用の視点から説明しますので、半導体以外の洗浄をしている技術者や、洗浄以外のプロセス技術者にも参考になります。

  1. 洗う理由: 汚れは何?いつ、どこからなぜやって来る?
  2. 一般の洗浄
    • 洗浄の4要素
      • 温度
      • 時間
      • 化学
      • 力学
  3. 半導体の洗浄に特有のこと
  4. 先端技術情報
    (半導体洗浄を取扱っている国際学会・国内学会)
  5. 半導体洗浄の基礎現象 (薬液と流れの効果)
    1. 表面の現象とプロセス
      • 付着
      • 脱離
      • 引き剥がす
      • こする
      • 乾かす
    2. 流れ、熱、拡散、反応
    3. 装置内流れの種類
      • 完全混合
      • 押出流れ
      • 境界層
    4. 流れの可視化観察 (簡単な例を動画で紹介)
  6. 洗浄機内の流れと反応
    1. 枚葉式洗浄機
      1. 水の流れ (観察動画と計算例)
      2. 化学反応の例
    2. バッチ式洗浄機
      1. 水の流れ (観察動画と計算例)
      2. 水流の最適化 (変えてみた例)
    3. バッチ式洗浄機における超音波の働き (観察)
  7. まとめ
    • 困った時の視点と対策

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